| 研究概要 |
・プラズマCVD及び熱CVDを問わず、CVDにおける表面反応過程が重要である。この表面反応過程の解析及び成膜形状のシミュレーションを可能にするモンテカルロシミュレーションコードを開発した。本コードによれば、入射粒子の運動エネルギー、入射方向、反応性付着確率を与えればミクロな凹凸上への成膜形状を予測可能であり、遂に実験結果から表面での反応速度を求めるためにも利用できる。表再反応速度は、気相内濃度の線型関数あるいは非線型関数であってもよいため、広範な応角が可能である。
・複酸化物CVDの実験的研究
(1)代表的複酸化物であるLiNbO_3について、LiDPM, Nb(OC_2H_5)_5を原料とするCVD実験を実施した。その結果、Li及びNbの供給濃度の比がある特定の狭い領域にある時LiNbO_3が生成する事を確認した。
(2)アフターグロープラズマCVDによるSiO_2膜のCVD実験を行い、原料としてTRIESとTEOSを用いた場合の反応性の相違を明らかにした。
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