| 研究課題/領域番号 |
11640485
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
地球化学
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| 研究機関 | 宇都宮大学 |
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研究代表者 |
江川 千佳司 宇都宮大学, 工学研究科, 助教授 (30151963)
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| 研究分担者 |
岩井 秀和 宇都宮大学, 工学研究科, 助手 (10311599)
南 伸昌 宇都宮大学, 教育学部, 助手 (80292572)
井野 正三 宇都宮大学, 工学部, 教授 (70005867)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2000
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| キーワード | 酸化ニッケル薄膜 / 表面ギ酸イオン / 表面イソシアネート / 磁性薄膜 / 走査型トンネル顕微鏡 / 偏光変調反射赤外分光法 / 反射高速電子回折 |
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| 研究概要 |
1.モデル酸化物表面の創製
格子間隔の違いによる構造制御を目指して、Ni単結晶(100)表面に形成される酸化薄膜の構造を低速電子回折によって調べた。300Kで500L以上の酸素露出によって、バルクより11%縮小した格子間隔をもつNiO(111)酸化薄膜が、基板のNi単結晶表面の[011]方位に優先的に成長することが明らかになった。Cu(100)表面に酸素が吸着した表面におけるc(4x2)構造については、走査型トンネル顕微鏡による原子像観察によって、これまでの表面構造モデルとは異なる酸素原子の吸着構造を提案した。また、MgO(100)表面に成長する磁性薄膜の反射高速電子回折を用いた研究によって、様々な形態を有する磁性薄膜が見い出された。
2.モデル酸化物表面における分子配向の研究
偏光変調高感度反射赤外分光法により、NiO(111)表面におけるギ酸とイソシアン酸の吸着と分解過程を検討した。ギ酸の吸着は清浄なNiおよびNiO薄膜ともにギ酸イオンで存在し、OCO対称伸縮振動が顕著な吸収を示すことから表面垂直方向に吸着すること、また、酸化膜表面においてより安定化されることが明らかになった。これに対して、イソシアン酸から生成する表面NCO種は、NCO逆対称伸縮振動の吸収から、清浄なNi表面には垂直に吸着するが、酸化膜表面では室温で傾いて吸着し、600Kになると分解することがわかった。
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