| 研究課題/領域番号 |
11650042
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
志村 努 東京大学, 生産技術研究所, 助教授 (90196543)
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| 研究分担者 |
芦原 聡 東京大学, 生産技術研究所, 助手 (10302621)
的場 修 東京大学, 生産技術研究所, 助手 (20282593)
黒田 和男 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (10107394)
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| キーワード | フォトニック結晶 / 4光波干渉 / 光硬化性ポリマー / ベクトル波 / 多光子吸収 / 光造形 / ポリマー色素レーザー |
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| 研究概要 |
4光波の干渉による3次元周期明暗パターンを用い、感光性物質を用いた光造形的な手法によりフォトニック結晶構造を形成することを目的として研究を行った。本年度の主な成果は下記のとおりである。
(1)ベクトル波による3次元干渉による干渉パターンの解析を行った。計算機シミュレーションにより4光波の作る干渉縞の3次元強度パターンを計算し、各光波の偏光方向により空間パターンの制御が可能であることを明らかにした。また晶系は4光波の交叉角度のみにより決まるが、交叉角度を保ったまま偏光成分を変化させることにより各kベクトルの干渉縞のコントラストを変化させ、結晶点群を制御することが可能であることが明らかになった。さらに非線形感度特性を持つ感光材料と組み合わせることにより、この効果を増強できることが見積もられた。
また4光波を同時に入射して干渉させる方法の他に、1対ずつの干渉による露光を遂次行うことによりコントラストの高い、効率的な露光が行えることがシミュレーションにより明らかになった。1対ずつ個別に干渉させた場合は、それぞれの光波の組み合わせにつき偏光方向を最適に選択できるため、理想的にはコントラストが1の干渉縞が作られる。実際のフォトニック結晶の形成には遂次露光方式の方がメリットが大きいことが予測される。
現在、実際に感光性樹脂を用いたフォトニック結晶の形成プロセスの予備実験を行いつつあり、第2年次にシミュレーション結果の実証を行っていく。
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