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光により酸を発生する基や光によりアミンを発生する基を有するポリマーを合成し、高感度光架橋系への応用、再溶解型光架橋系への応用、および化学気相堆積法(CVD法)によって、未露光表面あるいは露光表面で選択的にポリシロキサンを生成させ、プラズマ現像でポジ型像を得る、表面イメージング用フォトレジストへの応用を検討した。
(1)366nm光でスルホン酸を生成する基と環状エーテル基を有するポリマーを合成し、高感度な光架橋系であることを見出した。
(2)三級のカルボン酸エステルユニットとエポキシユニットを同一側鎖に持つビニルモノマーと光でスルホン酸を発生するモノマーの共重合によりポリマーを合成した。このものは高感度な光架橋ポリマーであるが、架橋後の加熱により溶剤に可溶になる再溶解型光架橋ポリマーとして利用できる事を見出した。
(3)O-アクリロイルナフトフェノンオキシムとスチレンスルホン酸のアルキルエステルを共に含むポリマーを合成した。このポリマーは193nm光でアミンを生成すると共に、加熱によりスルホン酸を生成することがわかった。このポリマー薄膜に193nm光を照射した後加熱し、その後アルコキシシランの蒸気に曝してから、酸素プラズマでエッチングすればポジ型のパターンが得られることがわかった。
(4)146nm光でスルホン酸を生成する、種々のタイプのポリマーを合成し、表面修飾用ネガ型レジストとして利用できることを見出した。
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