| 研究概要 |
部分的コヒーレント光を利用した光トモグラフィ法の確立を目指し,今年度は特に,部分的コヒーレント光源により非整数次フーリエ面に形成された光の場(部分的コヒーレント光非整数次フーリエ場)に着目し,次数が互いに異なるフーリエ場間のコヒーレンス特性について解析を行った.本解析は,部分的コヒーレント光非整数次フーリエ場を計測対象物(散乱体)に照射した場合の散乱光と,参照光として部分的コヒーレント光非整数次フーリエ場そのものとを利用する光干渉計測法を念頭においたものであり,光学系の微妙な位置ずれによる影響について定量的に考察したものである.
本研究により,光源がコヒーレントの場合,次数の異なるフーリエ場間の複素コヒーレンス度の絶対値に相当するコヒーレンス度はフ-リエ場間の次数差によらず常に1となるが,光源がインコヒーレントになるに従って,場間の次数差の増大とともにコヒーレンス度は小さくなり最終的にはゼロに近づくこと明らかとなった.一方,複素コヒーレンス度の位相についてもコヒーレンス度と同様,フーリエ場間の次数差の増大とともに位相差が増大することが分かった.また,フーリエ場間の複素コヒーレンス度のコヒーレンス度および位相は,非整数次フーリエ変換を実現するための光学系のフレネル数にも大きく依存していることを明らかにした.
今後は,本研究にて得られた成果を踏まえ,部分的コヒーレント光整数次フーリエ場を利用した光トモグラフィの手法の構築を目指す.
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