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2011 年度 実績報告書

電子線励起法による窒化物半導体量子井戸構造を用いた深紫外レーザに関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 11J05168
研究機関京都大学

研究代表者

大音 隆男  京都大学, 工学研究科, 特別研究員(DC1)

キーワード弱励起 / AlGaN/AlN量子井戸 / 局在励起子 / 誘導放出
研究概要

今までは,励起光源として主に中心波長193nmのArF*エキシマレーザが用いられていたために,強励起条件下における光学特性の評価しか行われていなかった.しかし,高効率なインコヒーレントな深紫外発光素子を目指す上では,高Al組成AlGaN/AlN量子井戸の励起子の局在度合いや非輻射再結合過程を弱励起条件下で行うことが重要である.そこで,中心波長172nmのCW光源であるXe_2*エキシマランプを用いて弱励起PL測定系を構築し,光学特性の評価を行った.その結果,深さの異なる二つの局在準位に起因する発光特性が観測された.深い局在準位は今までの本研究室からの報告からAl組成揺らぎであると考えられる.また,浅い局在に関して詳細に理論的に検討を行ったところ,統計的に避けることができない混晶揺らぎの計算値と非常にいい一致を示した.以上から,弱励起条件において低温付近で得られた発光特性は混晶揺らぎを大きく反映していると考えられ,浅い局在準位は弱励起にすることで初めて観測に成功したといえる.また,この結果は強励起条件の理解を大きく促進させるものであると考えられる.
さらに,電子線励起法を用いた深紫外固体レーザの実現に向けて,まずは光ポンピングでAIGaN/AlN量子井戸の誘導放出を実現することが必要不可欠である.そこで,高Al組成AIGaN/AlN量子井戸のedge PLの評価を行った.誘導放出に有利である構造を検討した後,へき開および端面のラッピングを行って共振器構造を作製し,ArF*エキシマレーザを用いて,edge PL測定を行った.井戸層のAl組成や井戸幅を変更して,edge PLを行ったが,誘導放出を実現するには至らなかった.原因としては,理論的に予測されているように,有効質量の増加等によって,発振閾値が大きく増加してしまっているからであると考えられる.

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

3: やや遅れている

理由

装置のトラブルが重なり,端面への誘電多層膜の蒸着や電子線に関連する実験およびデバイスの作製に関する検討がほとんど進んでいないのげ現状である.一方,その間に実施した弱励起PLの実験により,AlGaN/AlN量子井戸の光学特性の理解が大きく進展した.以上から,交付申請書に記載した目的の達成度はやや遅れているといえる.

今後の研究の推進方策

装置トラブルはほぼ解決したので,昨年度に進展した高Al組成AlGaN/AlN量子井戸の光学特性の評価,高品質な誘電多層膜の蒸着条件の検討,価電子帯バンド構造に着目した計算と構造設計を進めることによって,まずは誘導放出の実現を目指したいと考えている.誘導放出が実現できれば,誘導放出特性の評価と同時にデバイス設計も随時進めていく予定である.さらに並行して,弱励起から強励起までの発光特性を一貫して説明できるモデルを構築できるように,AlGaN/AlN量子井戸の光学特性の解析も進めていく予定である.

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Time-resolved photoluminescence of Al-rich AlGaN/AlN quantum wells under selective excitation2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Iwata, T.Oto, A.Kaneta, R.G.Banal, M.Funato, Y.Kawakami
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi C

      巻: 8 ページ: 2191-2193

    • DOI

      10.1002/pssc.201001083

    • 査読あり
  • [学会発表] 弱励起した高Al組成AlGaN/AlN量子井戸の局在励起子発光特性2012

    • 著者名/発表者名
      大音隆男, Ryan Banal, 船戸充, 川上養一
    • 学会等名
      第59回応用物理学会関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学早稲田キャンパス早稲田中・高等学校興風館
    • 年月日
      2012-03-17
  • [学会発表] High power and high efficiency deep ultraviolet emission from AlGaN/AlN quantum wells pumped by an electron beam2011

    • 著者名/発表者名
      T.Oto, R.G.Banal, K.Kataoka, M.Funato, Y.Kawakami
    • 学会等名
      9th Intern.Conf.on Nitride Semiconductors
    • 発表場所
      Glasgow, UK
    • 年月日
      2011-07-13
  • [学会発表] Well width dependence of the Mott density in Al-rich AlGaN/AlN quantum wells assessed by time-resolved photoluminescence2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Iwata, T.Oto, A.Kaneta, R.G.Banal, M.Funato, Y.Kawakami
    • 学会等名
      9th Intern.Conf.on Nitride Semiconductors
    • 発表場所
      Glasgow, UK
    • 年月日
      2011-07-12
  • [備考]

    • URL

      http://www.optomater.kuee.kyoto-u.ac.jp/

URL: 

公開日: 2013-06-26  

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