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2013 年度 実績報告書

電子線励起法による窒化物半導体量子井戸構造を用いた深紫外レーザに関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 11J05168
研究機関京都大学

研究代表者

大音 隆男  京都大学, 工学研究科, 特別研究員(DC1)

キーワード光学利得特性 / AlGaN/AIN量子井戸 / 局在励起子 / CLマッピング
研究概要

①高Al組成AIGaN/AIN量子井戸の光学利得特性
光学利得特性を理解することは, 発振閾値の低減化などデバイスへの応用上非常に重要である. そこで, 励起長可変法を用いて光学利得特性の評価を行った. 励起長を変化させながら, 端面PLを測定した結果, 増幅された自然放出光(ASE)の観測に成功した. また, 様々なA1組成・井戸幅を持つAIGaN/AIN量子井戸の光学利得を測定した結果, 最大で140㎝^<-1>(Al組成79%, 井戸幅5nm)という大きな光学利得を得た. さらに, 光学利得の偏光依存性の評価を行った結果, TEモ一ドとTMモードの光学利得がAl組成80%程度で入れ替わることを実験的に初めて実証した. この結果は, AIN上にコヒーレントに成長したAIGaNの価電子帯が80%でスイッチングすることに起因している.
②CLマッピング測定による高A1組成AIGaN/AIN量子井戸の励起子のダイナミクスの評価
励起子の空間的なダイナミクスを直接的に観測するために, スイスのAttolightにて, CLマッピングの温度特性の評価を行った, 電子線をピンホールとガンレンズで収束した後, サンプルに照射した. 加速電圧は2kV, 照射電流は0.75nAに設定し, 温度は18Kから300Kの問で変化させて測定を行った. CLはNAが0.72の対物レンズで集光した後, 32cmの分光器およびCCDを用いて検出した. 18Kから温度を上げていくと, CL強度およびピークエネルギーの分布が広がり, 平均エネルギーが高エネルギー側にシフトすることから, 励起子が非局在化を反映した結果が得られた. 100Kからさらに温度を上げると, CL強度の分布が広がる一方で, 高エネルギー側の成分が減少して低エネルギー側に裾を引くことから, 高エネルギー側から低エネルギーへのキャリアの流れ込みを反映した結果が得られた. これらの結果は, 以前に報告したPLのと同じ傾向が得られていることからAIGaN/AIN量子井戸の励起子ダミクスにして統一的な見解が得られたと考えている.

今後の研究の推進方策

(抄録なし)

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2014 2013 2001 その他

すべて 学会発表 (5件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件) (うち外国 1件)

  • [学会発表] Temperature dependent exciton dynamics in Al-rich AIGaN/AIN quantum wells assessed by cathodoluminescence mapping measurements2014

    • 著者名/発表者名
      大音隆男, 岩田佳也, D. Gachet, M, Benameur, R. Bana1, 船戸充, 川上養一
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス, 神奈川県
    • 年月日
      2014-03-20
  • [学会発表] Co-existence of a few and sub μm inhomogeneity in Al-rich AIGaN/AIN quantum wells2014

    • 著者名/発表者名
      岩田佳也, 大音隆男, D. Gachet, M. Benameur, R. Banal, 船戸充, 川上養一
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス, 神奈川県
    • 年月日
      2014-03-20
  • [学会発表] 高Al組成AIGaN/AIN量子井戸における光学利得特性の井戸幅依存性2013

    • 著者名/発表者名
      大音隆男, R. G. Banal, 船戸充, 川上養一
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術論演会
    • 発表場所
      同志社大学, 京都府
    • 年月日
      2013-09-20
  • [学会発表] Origin of exciton localization in Al-rich AIGaN/AIN quantum wells2013

    • 著者名/発表者名
      T. Oto, R. G. Banal, M. Funato and Y. Kawakami
    • 学会等名
      10th Intern. Conf. on Nitride Semiconductors
    • 発表場所
      Washington DC, USA
    • 年月日
      2013-08-27
  • [学会発表] Exciton localization characteristics in Al-rich AIGaN/AIN quantum wells2013

    • 著者名/発表者名
      T. Oto, R. G. Banal, M. Funato and Y. Kawakami
    • 学会等名
      32nd Electronic Materials Symposium
    • 発表場所
      Laforet Biwako, Shiga
    • 年月日
      2013-07-10
  • [備考]

    • URL

      http://www.optomater.kuee.kyoto-u.ac.jp/index.html

  • [産業財産権] 紫外線照射装置2001

    • 発明者名
      川上養一, 船戸充, 大音隆男, R. Banal, 山口真典, 片岡研, 羽田博成
    • 権利者名
      京都大学ウシオ電機
    • 産業財産権番号
      I407593
    • 出願年月日
      2003-03-06
    • 取得年月日
      2001-09-13
    • 外国

URL: 

公開日: 2015-07-15  

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