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2001 年度 実績報告書

回折および分光手法による酸化物表面での局在量子構造解析

研究課題

研究課題/領域番号 12130201
研究機関東北大学

研究代表者

松原 英一郎  東北大学, 金属材料研究所, 教授 (90173864)

研究分担者 中嶋 一雄  東北大学, 金属材料研究所, 教授 (80311554)
篠田 弘造  東北大学, 工学研究科, 助手 (10311549)
佐藤 修彰  東北大学, 多元物質科学研究所, 助教授 (70154078)
キーワード局在量子構造 / 蛍光X線ホログラム / XANES / 半導体 / チタン酸化物 / 亜鉛酸化物 / 光触媒 / シリコンゲルマニウム
研究概要

局在量子構造制御による種々の触媒物質の開発研究
●部分硫化酸化亜鉛の局所構造と光触媒能評価に基づく新触媒物質の開発の研究を京都大学と共同で行い部分硫化による光吸収端の長波長側への移動を確認した。
●部分硫化二酸化チタンの局所構造と光触媒能評価に基づく新触媒物質の開発の研究を名古屋大学と共同で行い、部分硫化により光吸収領域が長波長側に広がることを確認した。
●シリコン基板CVD成長酸化チタン超薄膜の局所構造と光触媒能の評価に基づく光触媒物質設計の研究において、この方式を特許申請した。
●ニッケルモリブデンめっき膜の局所構造制御に基づくアルカリ水溶液工業水素発生電極物質の開発研究において、モリブデンニッケルめっき合金の構造と水素発生との間に相関があることが見出され、より効率のよい水素発生電極開発のためのきっかけを得ることができた。
●フラーレンを反応核とする光触媒物質創製の研究において、C70やC60と硫黄の化合物を簡便に作成する方法を見出した。また、これらの化合物の原子構造を解析に成功した。
蛍光X線ホログラフィー法による局所格子歪み評価と諸物性の研究
●ラボラトリー蛍光X線ホログラフィー装置および解析手法の開発研究において、装置の開発に成功し、この装置の特許化と、この装置を用いた蛍光X線ホログラフィー測定を行っている。
●SiGe単結晶中のGeの局所環境構造評価を、蛍光X線ホログラフィーを用いて測定し、その結果から、Ge原子の周りで短範囲規則構造が形成されている兆候を確認し、これらの構造と物性とのかかわりについて現在研究を進めている。
X線吸収微細構造(X-ray Absorption Fine Structure : XAFS)を用いた局所構造解析
●アルミナ焼結体中の粒界偏析希土類元素の局所環境構造と高温耐クリープ特性の研究を東大、京大と共同で行い、アルミナ焼結体の粒界に偏析しているルテチウムの環境構造の定量解析に成功した。
結晶性成長時の局所格子歪み制御による新機能開発の研究
●全率固溶体型SiGeバルク単結晶の成長とエピタキシャル成長の研究において、SiGe単結晶の成長技術を確立した。現存この結晶を使って、局所構浩の評価存はじめている。

  • 研究成果

    (6件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (6件)

  • [文献書誌] Y.Azuma, et al.: "Growth of SiGe bulk crystal with uniform composition by directly controlling the growth temperature at the crystal-melt interface using in-situ monitoring system"J. Crystal Growth. 224. 204-211 (2001)

  • [文献書誌] N.Sato et al.: "Formation of UO_2 thin film by laser ablation and its electrical properties"J. Nucl. Sci. Tech.. (印刷中). (2002)

  • [文献書誌] E.Matsuara et al.: "Environmental structural studies in amorphous and quasicrystalline Zr_<70>Al_6Ni_<10>Pt_<14> alloys"Scripta mater.. 44(8-9). 204-211 (2001)

  • [文献書誌] 林好一他: "蛍光X線ホログラフィー技術の現状とその将来的展開"まてりあ. 40(9). 801-807 (2001)

  • [文献書誌] H.Takahashi et al.: "Synthesis of fullerenes/sulfur compounds"Proc. 4^<th> Pacific Rim International Conf. on Advanced Materials and Processing (PRICM4). 647-650 (2001)

  • [文献書誌] H.Takahashi et al.: "Preparation of C60 and sulfur compound for development of new photocatalyses"Proc. 4^<th> Pacific Rim International Conf. on Advanced Materials and Processimr (PRICM4). 627-630 (2001)

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公開日: 2003-04-03   更新日: 2012-10-31  

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