研究課題
液晶のプラズマプロセスには従来13.56MHzの容量結合プラズマが用いられているが、プラズマ密度が低いために限界に直面している。これを打ち破るために、マイクロ波放電で生成する新しいプラズマ源として注目される表面波プラズマを利用する。これによってプラズマの高密度化(〜10^<11>cm^<-3>)と大口径化(直径〜80cm)をはかり、低温基板上に高品質のポリシリコンを堆積する大面積の液晶作製プロセスを開発するのが、本研究の目的である。本年度は次の項目について重点的に研究を行った。(1)放電用アンテナ系の最適化:2.45GHzと915MHzの放電を用いて高密度・大口径プラズマを生成するためのアンテナを実験とシミュレーションから調べた。(2)電子エネルギー分布関数の計測と制御:表面波プラズマの電子エネルギー分布関数を詳細に調べ、体積加熱と表面加熱の違いを明らかにした。さらに、電子エネルギー分布関数とプラズマ内のラジカル組成との相関を実験と計算から明らかにした。
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