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2001 年度 実績報告書

ゾルゲル法による複合凝集砥粒の開発に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 12450055
研究機関東京大学

研究代表者

谷 泰弘  東京大学, 生産技術研究所, 教授 (80143527)

研究分担者 柳原 聖  東京大学, 生産技術研究所, 助手 (90313113)
河田 研治  タイホー工業(株), 中央研究所, 主任研究員
キーワード砥粒加工 / 高機能砥粒 / ゾルゲル法 / 凝集砥粒 / 固定砥粒加工 / 遊離砥粒加工
研究概要

砥粒加工の仕上げ工程においては,微細な砥粒を使用することが多い.しかし,一般に広く利用される砥粒は無機酸化物系の不導体が多く,微細径のものを用いれば砥粒自身の静電特性により凝集し易くなる.
加工現場の経験的な知識においては,このような砥粒自身の凝集はスクラッチなどの加工不良を起こす遠因とみなされてきた.しかし,この凝集による加工不良は砥粒の凝集状態の不均一性に起因するものであり,凝集状態を一定以上のレベルに均一化できれば加工不良を克服し,新たな機能を有する高機能砥粒を提供できる可能性がある.
そのような観点から,研究代表者らはゾルゲル法を利用して,化学的に均一な凝集力を有する砥粒を開発することにした.本研究においては,シリカ,アルミナ,酸化セリウム砥粒を中心にゾルゲル法による凝集砥粒の製造法を検討し,ゾルゲル法に関する基礎実験結果からその凝集砥粒が製造可能であることを確認した.さらにこれら凝集砥粒を,研磨テープ,砥粒入り研磨パッド,研磨スラリーに適用し,これまでの単一砥粒では為し得なかった高能率・高品位加工をシリコンウェーハ加工や水晶ウェーハ加工において実現できることを示した.
本研究により,従来にない様々な機能を砥粒自身に付与し,そのような機能性砥粒を化学的に製造できる見通しを得た.

  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (1件)

  • [文献書誌] T.Enomoto, Y.Tani, K.Orii: "Development of a Lapping Film Utilizing Agglomerative Superfine Silica Abrasives for Edge Finishing of a Silicon Wafer"Proc. ICPE2001. 391-395 (2001)

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公開日: 2003-04-03   更新日: 2016-04-21  

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