| 研究課題/領域番号 |
12450340
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| 研究機関 | 東京都立大学 |
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研究代表者 |
保母 敏行 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 教授 (00087321)
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| 研究分担者 |
下坂 琢哉 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (40295473)
中釜 達朗 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (50244421)
内山 一美 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (40151899)
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| キーワード | アゾベンゼン / シクロデキストリン / 機能性分離材料 |
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| 研究概要 |
本研究では光応答性ホスト化合物を分子認識部位とし、光照射により分子認識機能を制御できる新規分離材料の創製および分離システムへの応用を目的としている。本年度はアゾベンゼン部位を修飾したγ-シクロデキストリンを光応答性分子認識部位、シリカゲルを固定化担体とした分離材料(充填剤)を調製し、逆相系マイクロ液体クロマトグラフを用いてその分離特性およびその紫外・可視光に対する応答性を検討した。移動相には水・メタノール混液(20:80)を使用した。モデル試料としてペンタセン、ペリレンなど7種類の多環芳香族炭化水素を用いた。
アゾベンゼン部位をシクロデキストリンの第一級水酸基に導入した充填剤の場合、アゾベンゼン部位の分子認識性とシクロデキストリン部位の形状選択性の双方が発現した。本充填剤に紫外光を照射したところ、ペンタセンなどの比較的幅の狭い試料分子の保持は減少し、ペリレンなどの幅広い分子の保持は逆に増加した。可視光照射を行なうと保持は復元した。アゾベンゼン部位のみを修飾した充填剤では、本移動相条件下において紫外光照射によりすべての試料に対して保持が減少することから、アゾベンゼン部位の光異性化がシクロデキストリンのホスト-ゲスト相互作用の変化を促していることが推察された。逆相系移動相を用いて光照射により初めて保持を増加させ、かつ紫外光照射時間を制御することにより、単一の移動相を用いた恒温下で6種類の分子認識能(溶出順序)を発現させることに成功した。一方、アゾベンゼン部位をシクロデキストリンの第二級水酸基に結合させた充填剤では前者ほどの光応答性は示さなかったことから、アゾベンゼン部位の導入位置が特異的な光応答性発現に重要な要因であると考えられる。
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