| 研究概要 |
近年,歯科医療に於いて使用されている補綴修復物に含有される金属元素や合成有機高分子が原因と考えられるアレルギー発症等などの報告が多くなってきており,従来生体にとってほぼ無為害性とされてきた材料でも,状況により注意を払う必要が漸増し,医療材料に含有する物質の溶出と生体への影響を把握し,的確に対応できる体制作りをすることが急務となっている。本研究は,各種金属イオンおよびレジン系物質が存在する環境下での培養細胞への物質取り込みとストレスタンパク発現の様相,および細胞に与える影響を検索し,その動態を予測するシステムを開発する基盤作りを目的とするものである。本研究の第2年度に当たり,主設備品として小型のヒスタミン測定装置を購入し生体または細胞より遊離・排出され,I型アレルギー反応を惹起する化学伝達物質であるヒスタミンの量を測定できるようになった。この装置を用いて,アレルゲン性の高いニッケル,コバルト,クロム,チタン,カドミウム等の金属イオンについて,各種培養細胞において,細胞増殖を阻害しない濃度を決定し,培養液中のヒスタミン量と金属イオン量の関係を測定し,加えて生体への影響を体液中に含まれるヒスタミン量で表現する方法を検討している。また共同研究活動を行っているノースカロライナ大学において,ストレスタンパク発現遺伝子を導入した細胞を使って同様の共同実験を行うと同時に,本研究についての討議を行い,アレルギーおよび免疫関連遺伝子の観点から,各個体における生体内吸収メカニズム,アレルギー診断法等につき検索を行っている。
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