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今年度はダイオキシン類似化合物であるジベンゾフランを鋳型に用いて種々の汎用高分子に分子インプリントを試みた。ここで方法としては我々が開発したPhase inversion imprinting法を適応した。汎用高分子としては、ポリスルホン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン等を利用した。ジベンゾフラン鋳型を抽出した多孔性高分子膜は選択的に鋳型分子であるジベンゾフランを取り込むことがその他の基質取り込み(ジベンゾダイオキシン、ジフェニルエーテル、ベンゾダイオキシン)より明らかになった。また、触媒的分解作用を高分子環境に濃縮した状態で可能にするために、超音波照射を行い、これによる膜内の吸着分子の解離効果の検討も行った。さらに種々の高分子膜で検討するために、ナイロンなどの多孔性分子インプリント膜の作製条件の探索も行った。膜内に取り込まれたジベンゾフラン濃度を計測するために、水晶振動子微量天秤と膜状分子インプリント高分子を組み合わせた高感度センサーの開発にも目処が立ち今後、これを利用した環境汚染物質認識センサーの作製が可能となった。
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