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[文献書誌] 山口喬之,渡辺英紀,惣野崇,西川宏之,藤巻真,大木義路: "高エネルギーイオン注入したシリカガラスの顕微分光による評価(II)"第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集. No.2. 814,6a-B-10 (2000)
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[文献書誌] 惣野崇,西川宏之,山口喬之,渡辺英紀,西原義孝,藤巻真,大木義路: "高エネルギーイオン注入したシリカガラスの誘起欠陥の熱処理特性"第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集. No.2,. 813,6a-B-8 (2000)
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[文献書誌] 西川宏之,渡辺英紀,J.H.Stathis: "シリコン熱酸化膜のフォトルミネッセンス特性に対する熱処理の影響"第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集,. No.2. p.674,6p-ZC-2 (2000)
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[文献書誌] 惣野崇,西川宏之,山口喬之,渡辺英紀,西原義孝,服部雅晴,藤巻真,大木義路,及川将一,神谷富裕,荒川和夫: "シリカガラスにおけるイオン注入領域のミクロ評価"第32回電気学会電気電子絶縁材料システムシンポジウム予稿集. 269-272 (2000)
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[文献書誌] 服部雅晴,西原義孝,大木義路,藤巻真,惣野崇,西川宏之,及川将一,神谷富裕,荒川和夫: "イオン注入シリカガラスの真空紫外分光による評価"放電、誘電・絶縁材料合同研究会. DEI-01-79 (2001)