研究課題
地域連携推進研究費
本研究は、液晶ディスプレイに用いられる薄膜トランジスタ(TFT)製造の際のパターン転写技術に関するものである。現行のパターン転写は、試料上のフォト・レジストにパターンの描かれた光を照射して行っているが、本研究では、高分子薄膜を試料に密着させ、その上からパターンの描かれた原版を圧着して凹凸パターンを高分子膜上に形成する、いわゆるインプリント方式の印刷技術を用いることにより、液晶ディスプレイの廉価な生産技術を提供することを目的としている。本研究においては、高分子薄膜としてポリエチレン、ポリスチレンなどを使用してパターン転写実験を行い、従来法と同程度の特性を持つTFTの製作に成功した。また、本研究の過程で、凹凸パターン転写に合わせて超微小な結晶シリコン集積回路をあたかも印刷インクのように用いて各画素に貼り付け、これをTFTの代わりに用いることで、50インチサイズ以上の超大画面液晶ディスプレイの製造を20万円台と極めて安価に製造できる新手法を着想するに至り、その妥当性の確認を行い、本研究で開発した技術の新展開の可能性も示した。
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