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2001 年度 実績報告書

レーザ光による水分解を利用した表面クリーニングの研究

研究課題

研究課題/領域番号 13450055
研究機関東京工業大学

研究代表者

戸倉 和  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (10016628)

研究分担者 比田井 洋史  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (60313334)
平田 敦  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教授 (50242277)
キーワードレーザ / クリーニング / ラジカル / 銅 / 機能表面 / 酸化還元
研究概要

本研究はクリーンな水が生み出す活性種に着目し,これを表面クリーニングに適用しようとするものである.すなわち,1.水および気体を溶存させた水,およびこれらの蒸気にエキシマレーザ光を照射した際の活性種について,分光機器を使用して明らかにする. 2.生成が明らかになった活性種について金属,シリコン、ガラスなどの材料表面にどのような作用を及ぼすかについて,物性面からシミュレーションにより検討する. 3.上記の結果に基づいて最適な照射条件を導き,この条件によりクリーニングを試みる.以上を目的としている. 1.についてはArFエキシマレーザ照射によって水を分解することができ,分光分析よりOH, O2+, H2O+, O2が生成していることを明らかにした.さらに,硫酸酸性雰囲気下でこれらの分解生成物によりヨウ化カリウム,過マンガン酸カリウムを酸化・還元出来ることがわかった.また,これらのラジカルにより,銅をエッチングできることが明らかになっている.この銅の表面は酸によってエッチングした場合と酷似しており,レーザによるものではなく,酸化によりエッチングされたと考えられる.さらに,水のpHを変化させることで銅の表面を,除去,酸化銅(I)の生成,酸化銅(II)の生成と変化させることができ,pHの違いで酸化力を変化させられることが明らかになった.これらの結果は,今後2, 3の部分について検討を行っていく上で有用な結果であり,さらにエッチングできた銅を詳細に評価,様々に条件をかえることで2, 3を検討する予定である。

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公開日: 2003-04-03   更新日: 2016-04-21  

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