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未だ未知のケイ素-ケイ素三重結合化学種(ジシリン)の合成単離をめざして、初年度、我々は、含ケイ素不飽和三員環を累積したビスシラシクロプロペンからリチウム金属で還元的にアセチレンを2分子脱離する方法論を検討することにした。生成が予想される過剰アニオン種(ジシリンのテトラアニオン)を一電子酸化剤で酸化することにより、目的の中性のケイ素-ケイ素三結合化学種の合成が期待される。この合成ルートを実現するにはケイ素上の置換基がシリル基であることが必須であり、新たにケイ素置換のビスシラシクロプロペンの合成を検討した。その結果トリメチルシリル置換誘導体の合成に成功し、すでに既知のアルキル基やフェニル基の置換したビスシラシクロプロベニルよりも熱的に非常に安定化されていることが実験的に示された。
一方理論計算によってもこの熱安定性が示唆され、さらにジシリンのテトラアニオンの理論計算では古典的な構造よりも架橋構造が安定になっていることが示された。来年度以降はリチウムなどにより還元的なアセチレン脱離を検討する予定である。
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