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50nm線幅を持つ次世代リソグラフィーシステムとして、マルチ・マイクロコラムからなる電子ビーム描画装置の基本設計とそれに対して電子光学面からの考察を行った。
(a)単独のマイクロコラムに関する電子光学解析であり、電子源・レンズ・偏向コラム等の配置例とその時の描画特性(線幅、描画面積など)の関係。
(b)マイクロコラムを複数個並べたときのコラム間の干渉・誘導およびビーム間クーロン相互作用が描画特性に与える影響についてのシミュレーションである。コラムの構造設計と関連するが、干渉・誘導の排除はマルチコラム描画装置の成否のキーポイントであることが示された。
(c)マルチコラムを一括して扱うマルチ要素レンズおよびマルチ要素偏向器の構造設計とその電子光学特性のシミュレーションである。
(a)と(b)については、理論的検討およびモデルコラムのシミュレーションを行った。(c)については、これを解析するための3次元磁界解析ソフトウエアの構築とシミュレーションについての下準備中である。
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