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2cm角、厚み1mm程度の石英ガラスまたはPETチップ内に作製した断面積150x500μm^2のマイクロキャピラリ内に、大気圧下でHe、Arプラズマを低電力(10W以下)で生成する技術を利用し、PETチップ上キャピラリや内径0.5mmテフロンチューブ内壁のプラズマ処理による親水性の付与、SiO_2薄膜のコーティングを実現した。また、プラズマの発光分光分析によるプラズマ中の原子励起温度を測定したところ、Heプラズマで2100K程度、Arプラズマで5000K以上の値であった。さらに、マッチングネットワークの回路素子値からマイクロプラズマのインピーダンスを求め、そこから電子密度を見積もったところ10^<11>cm^<-3>以上の比較的高密度のプラズマであることを明らかにした。
次に、マイクロプラズマの局所的材料処理への応用として、注射針(外径0.5mm以下)の先端から大気圧プラズマジェット(駆動電力≦15W)を生成し、基板上に塗布したホトレジスト等の有機物薄膜の局所アッシング、Si基板のポイントエッチングを実現した。
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