|
1.水溶液中のスズ(II)イオンを硝酸イオンで徐々に酸化することにより、水溶液に浸したガラス基板上に酸化スズ(IV)の薄膜を析出させることが可能であることを見出した。酸化の速度が速すぎる場合には、均一核形成が優勢になるために粉末状の沈殿が析出するが、水溶液の組成および酸化温度を制御することにより、粉末状の沈殿生成を抑え、薄膜のみを優先的に析出させることに成功した。
さらに、一旦酸化スズ薄膜を形成した後にこれをアンチモン(III)イオンを含む水溶液に浸し、その後大気中で焼成することにより、薄膜に電気伝導性が現れることを見出し、高い電気伝導度を与えるための条件探索を行った。その結果、最高20.0Scm-1の電気伝導度を有する、透明酸化スズ薄膜の作製に成功した。
上記の方法以外にも、例えば酸化スズ薄膜の析出時に同時にアンチモンをドープする方法を各種試みたが、製膜と同時にドープを行うことはできなかった。結局、一旦、酸化スズ薄膜を作製したあとに、アンチモン(III)イオンを拡散させる方法が最良であった。
2.複雑形状基板の一例として、酸化チタンの微粒子上に導電性酸化スズの薄膜を形成し、帯電防止用ポリマーフィラーの作製を試みた。その結果、酸化チタン微粒子上に的確に製膜を施すことができ、市販の白色系導電性フィラーと同程度の導電性粒子を作製することができた。
|
