| 研究概要 |
本研究では、申請者らがこれまで種々の高周期典型元素多重結合の速度論的安定化に応用してきた有用な立体保護基である2,4,6-トリス[ビス(トリメチルシリル)メチル]フェニル(Tbt)基を用いることにより、未だ報告例の無いケイ素-ホウ二素重結合化合物を合成しその性質を解明することを目的とする。平成13年度の研究においては、.まず前駆体となるジハロシリルボランの合成を目的として、シリレン-イソシアニド錯体1[Tbt(Mes)SiCNMes^*;Mes^*=2,4,6-トリ-t-ブチルフェニル]とかさ高い置換基を有するジハロボランとの反応について検討を行った。ジハロボランとして、MesBX_2、(Mes=メシチル,X=Cl, Br)およびTipBX_2、(Tip=2, 4, 6-トリイソプロピルフェニル,X=Cl, Br)を用いて1との反応を行ったところ、いずれの場合も反応混合物のアルゴン下でのNMRにおいてジハロシリルボラン-イソシアニド錯体2[Tbt(Mes)(Cl)SiBCl(R)CNMes^*;R=Mes or Tip]に対応すると考えられるシグナルが観測された。しかしながら、これらのシグナルは空気にさらすことにより速やかに消失し、2の単離には至らなかった。現在アミノ基の電子的効果を利用することによりシリルボランを安定化することを目的として、1とジハロアミノボランとの反応によるジハロシリルボランの合成ついて検討中である。
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