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2002 年度 実績報告書

ワイドギャップ導電性カルコゲナイド及びオキシカルコゲナイドの合成

研究課題

研究課題/領域番号 13750772
研究機関東京工業大学

研究代表者

植田 和茂  東京工業大学, 応用セラミックス研究所, 助手 (70302982)

キーワードカルコゲナイド / オキシカルコゲナイド / ワイドギャップ半導体 / p型伝導 / n型伝導
研究概要

本研究では、既存の透明導電性材料の電気特性の改善ではなく、新規な材料(特に透明P型半導体)の探索・発見を目的とした。以前の研究の知見より、典型的な酸化物では価電子帯においてホールが局在するため、透明P型伝導性の発現が困難である。透明電極への応用だけでなくデバイス化までの応用を考慮すると透明P型伝導性材料が必須となる。半導体分野で良く知られているII-VI系硫化物など数多くの硫化物半導体が存在するが、本研究では、それらのような従来の共有結合性の強い硫化物ではなく、イオン結合性の強い硫化物に注目して透明伝導性を見出すことが目標である。酸化物に類似して比較的イオン性の強い硫化物(アルカリ土類や希土類金属イオンイオンを含む系)を用いて新規透明伝導性材料を合成することが課題であった。本研究では、希土類金属を含む硫化物・オキシ硫化物(特にLnCuOS(Ln=希土類イオン)など)を粉末・薄膜の形状で合成し、ドーパント添加による光学的・電気的特性の変化を観察した。その結果、Ln=La, Pr, Ndの場合が、約3eVのエネルギーギャップをもつワイドギャップp型半導体であることを見出した。

  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (1件)

  • [文献書誌] K.Ueda, K.Takafuji, H.Hosono: "Preparation and crystal structure analysis of CeCuOS"Journal of Solid State Chemistry. 170. 182 (2003)

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公開日: 2004-04-07   更新日: 2016-04-21  

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