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2013 年度 実績報告書

酸化膜を有するSiナノ構造中のフォノンおよびキャリアの挙動に関する計算科学的研究

研究課題

研究課題/領域番号 13J05632
研究機関早稲田大学

研究代表者

図師 知文  早稲田大学, 理工学研究科, 特別研究員DC2

キーワードフォノン / キャリア / 分子動力学法 / 非平衡グリーン関数法 / 酸化絶縁膜 / SiO_2/Si界面
研究概要

本研究は、酸化膜に覆われたSiナノ構造中のフォノンとキャリアの振る舞いを理解するために、それらの輸送特性を評価することを目的とする。本年度では、①酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶のフォノン・エネルギー分散関係の解析と、②ナノチューブ型Si結晶の熱電性能指数の予測、の2つの研究に取り組んだ。
①フォノンの基本的な指標となるフォノン分散関係は、分子動力学法を用いて解析した。酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶では、SiO_2/Si界面の存在、および酸化誘起歪の影響によってSi原子の振動エネルギーが変化し、バルク結晶とは異なる分散関係を示すことを突き止め、ナノワイヤ型Si結晶中のフォノン伝播特性の理解にはその結晶中の3次元歪分布を正確に把握する必要があるとう工学応用上重要な知見を示した。この成果は学会でも高く評価され、最新の成果を持ち寄る国内研究会で最優秀ポスター賞を受賞した。また、筆頭著者として執筆した論文が英文学術雑誌で公開された。本研究で初年度の目標としていたSiナノ構造体特有のフォノン分散関係と状態密度の計算はほぼ達成した。
②本年度はさらに次年度に研究予定であったキャリア輸送の評価も行った。非平衡グリーン関数法に基づく量子輸送シミュレーションを実施し、ナノチューブ型Si結晶中のゼーベック係数Sと電気伝導度Gを算出した。SとGは表面ラフネスと結晶サイズに依存し、その結果、熱電素子としての性能を大きく左右することを明らかにした。Siナノ構造の表面ラフネスがフォノン及びとキャリアの輸送パラメータに与える影響を解明し熱電性能指数ZTの予測までこぎつけた本成果は、既に国内学会で発表し、計算機実験のみで熱電性能を予測するという新奇性を評価された。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

1: 当初の計画以上に進展している

理由

初年度から研究課題に取り組み、目標としていたSiナノ構造体特有のフォノン分散関係と状態密度の計算はほぼ達成した。期待以上の進展があったと認められる成果として、非平衡グリーン関数法に基づく量子輸送シミュレーションを実施し、電気伝導に与える影響まで踏み込んだ事があげられる。

今後の研究の推進方策

今後は、昨年度に引き続きSiナノ構造中のフォノンとキャリアの輸送特性を評価する。界面ラフネスを有するSiナノ結晶中の熱伝導率と電気伝導度を分子動力学シミュレーションと量子輸送シミュレーションでそれぞれ予測し、それらをパラメータとしたデバイスモデリング・シミュレーションを実施する。それにより低次元Si結晶を材料とする熱電素子やトランジスタの特性の性能を高精度に予測する予定である。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2014

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Phonon Dispersion in<100>Si Nanowire Covered with SiO_2 Film Calculated by Molecular Dynamics Simulalion2014

    • 著者名/発表者名
      T. Zushi, K. Shimura, M. Tomita, K. Ohmori, K. Yamada, and T. Watanabe
    • 雑誌名

      Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 5 ページ: 149-154

    • DOI

      10.1149/2.010405jss

    • 査読あり
  • [学会発表] Impact of Surface Roughness on Thermoelectric Properties of Silicon Nanotubes2014

    • 著者名/発表者名
      T. Zushi, A. Cresti, and M. Pala, K. Yamada, and T. Watanabe
    • 学会等名
      応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京都町田市 青山学院大学
    • 年月日
      20140317-20
  • [学会発表] 酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶のフォノン分散関係に格子歪が及ぼす影響2014

    • 著者名/発表者名
      図師知文, 志村昴亮, 大毛利健治, 山田啓作, 渡邉孝信
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理・(第19回)
    • 発表場所
      静岡県熱海市ニューウェルシティ湯河原
    • 年月日
      20140124-25
  • [学会発表] A Simulation Study of Thermoelectric Properties of Silicon Nanotubes2014

    • 著者名/発表者名
      T. Zushi. A. Cresti, and M. Pala
    • 学会等名
      The 5th NIMS/MANA-Waseda University International Symposium
    • 発表場所
      茨城県つくば市 物質材料研究機構
    • 年月日
      2014-03-24

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公開日: 2015-07-15  

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