| 研究概要 |
ブロック共重合体のミクロ相分離構造を利用してナノ構造を作り出す研究がなされている。1μm以下の薄膜中でのナノ構造は電子機能性ナノ材料への応用も考えられ、大変興味深い。一般的にラメラやシリンダーは基質面に対して平行に形成されるため、垂直に立たせることは大変難しい。それは、ジブロック共重合体の構成成分(例えばAとBとする)のどちらかは、より強い親基質性を持つためである。我々は表面の粗いITO(Indium Tin Oxide)基質を用いることで、ラメラを直立させることに成功した。この理由は表面が粗い基質にポリマーが平行に形成されると、界面の湾曲により過剰な自由エネルギーが生じるため、ラメラが直立するほうがエネルギー的に安定であるからである。
本研究は、ITO上にスピンキャストすることにより得られたpolystyrene(PS)-b-poly(methyl methacrylate)(PMMA)(以下SMMA)系の直立したラメラに紫外線(UV)照射と酢酸(GAC)浸漬を行う事によりPMMAが選択的に分解除去し、その構造をAFMにより観察を行った。
SMMA(Mn=106K-99K, Mw/Mn=1.09)にUVを10分照射し、GACへ3分間浸漬させ、取り出してから約1目経過後AFMで観察した。その結果AFM像の白黒のコントラストより、表面のPMMA相が除去され、ラメラ構造に沿つた溝を形成させることに成功した。
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