• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2004 年度 実績報告書

強磁性を有する強誘電体とSi系希薄磁性半導体の接合を用いた新規な電界効果型素子

研究課題

研究課題/領域番号 14102021
研究機関大阪府立大学

研究代表者

藤村 紀文  大阪府立大学, 工学研究科, 教授 (50199361)

研究分担者 松井 利之  大阪府立大学, 工学研究科, 助教授 (20219372)
芦田 淳  大阪府立大学, 工学研究科, 助手 (60231908)
吉村 武  大阪府立大学, 工学研究科, 日本学術振興会特別研究員(PD)
キーワード強磁性強誘電体 / YMnO_3 / 強誘電体ゲートトランジスタ / 新強誘電体物 / 減分極電界 / 電界効果型スピン素子 / Si:Ce希薄磁性半導体 / スピントロニクス
研究概要

磁性強誘電体YMnO_3系物質とSi:Ce希薄磁性半導体の接合によってMOS界面(MFIS界面)を形成し,新規な電界効果型の不揮発性メモリを混載した論理素子の開発を行っている。
1)強磁性強誘電体RMnO_3系物質の開発:強磁性と強誘電性を併せ持つYbMnO_3の開発に成功した。
2)新規な磁性誘電体の開発:BaFeZrO_3、BaCo_<1-X>Mn_XO_3などの新規な磁性誘電体の開発に成功した。
3)YMnO_3を用いたMOS(MFIS)キャパシタのゲート電圧の低減:バッファ層の最適化によってYMnO_3/Y_2O_3/Si MFISキャパシタのゲート電圧の低減させることに成功した。
3)YMnO_3を用いたMFIS電界効果型トランジスタの作成:YMnO_3を用いたMFIS電界効果型トランジスタを20μmと大きなゲート長ではあるが全行程を終了した。試作中にYMnO_3のクラッキングの問題が生じた。成長温度の低温化によって解決した。
4)YMnO_3の磁気特性と誘電特性との相関
ネール点近傍の温度において、YMnO_3の分極反転の抗電界および低電界側での誘電率に異常があることが見いだされた。また、磁場によってメモリーウインドウを制御できることも明らかになった。
5)スピン数、キャリア数を制御したSi希薄磁性半導体の作成:Ce濃度、キャリア濃度を制御した試料の作成に成功した。置換型に固溶しているCe濃度およびキャリア数を増加することによって磁化の増加が認められた。キャリア濃度の増加に伴って磁気抵抗は減少した。
6)YMnO_3/Y_2O_3/Si:Ce MFISキャパシタの作製:YMnO_3/Y_2O_3/Si:CeエピタキシャルMFISキャパシタの作製に成功した。通常ホール効果と異常ホール効果を電界によって制御できることが見いだされた。

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2005 2004 その他

すべて 雑誌論文 (11件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] P-E measurements for ferroelectric gate capacitors2004

    • 著者名/発表者名
      T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Integrated Ferroelectrics 61

      ページ: 59-64

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Analysis of Nitrogen Plasma Generated by a Pulsed Plasma System Near Atmospheric Pressure2004

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, H.Kitahata, M.Yuasa
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 96

      ページ: 6094-6096

  • [雑誌論文] Formation of Silicon Oxynitride Films with Low Leakage Current Using N_2/O_2 Plasma near Atomospheric Pressure2004

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, H.Kitahata, M.Yuasa, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 43

      ページ: 7853-7856

  • [雑誌論文] Pulsed-Laser-Deposited YMnO_3 Epitaxial Films with Square Polarization-Electric Field Hysteresis Loop and Low-Temperature Growth2004

    • 著者名/発表者名
      N.Shigemitsu, H.Sakata, D.Ito, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 43

      ページ: 6613-6616

  • [雑誌論文] Synthesis of Bi(Fe_XAl_<1-X>)O_3 Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Its Structural Characterization2004

    • 著者名/発表者名
      M.Okada, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 43

      ページ: 6609-6612

  • [雑誌論文] Effect of oxygen deficiencies on magnetic properties of epitaxial grown BaFeO_3 thin films on (100) SrTiO_3 substrates2004

    • 著者名/発表者名
      E.Taketani, T.Matsui, N.Fujimura, K.Morii
    • 雑誌名

      IEEE Transaction on Magnetics 40(4)

      ページ: 2736-2738

  • [雑誌論文] Electro-Optic Effect In ZnO : Mn Thin Films2004

    • 著者名/発表者名
      T.Nagata, A.Ashida, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Alloys and Compounds 371

      ページ: 157-159

  • [雑誌論文] The effect of Xe on the rf plasma and the film growth of ZnO by rf sputtering2004

    • 著者名/発表者名
      T.Nagata, A.Ashida, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 95

      ページ: 3923-3927

  • [雑誌論文] Optical Propagation Properties of ZnO Films Grown on Sapphire Substrate2004

    • 著者名/発表者名
      A.Ashida, H.Ohta, T.Nagata, Y.Nakano, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 95(4)

      ページ: 1673-1676

  • [雑誌論文] Inprouvement of magnetization and leakage current properties of magnetoelectric BaFeO_3 thin films by Zr substitution

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, H.Tuda, N.Fujimura, K.Morii
    • 雑誌名

      Applied Phys.Letters (印刷中)

  • [雑誌論文] Enhancement of ferromagnetic ordering in dielectric BaFe_<1-X>Zr_XO_3 (x=0.5-0.8)single crystalline films by pulsed laser-beam deposition

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, N.Fujimura, H.Tsuda, K.Morii
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics (印刷中)

  • [図書] Ferroelectric Thin Films : Basic Properties and Device Physics for Memory Applications2005

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, T.Yoshimura
    • 総ページ数
      220
    • 出版者
      Springer-Verlag GmbH

URL: 

公開日: 2006-07-12   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi