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2006 年度 研究成果報告書概要

強磁性を有する強誘電体とSi系希薄磁性半導体の接合を用いた新規な電界効果型素子

研究課題

研究課題/領域番号 14102021
研究種目

基盤研究(S)

配分区分補助金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関大阪府立大学

研究代表者

藤村 紀文  大阪府立大学, 工学研究科, 教授 (50199361)

研究分担者 松井 利之  大阪府立大学, 工学研究科, 助教授 (20219372)
芦田 淳  大阪府立大学, 工学研究科, 講師 (60231908)
吉村 武  大阪府立大学, 工学研究科, 助手 (30405344)
研究期間 (年度) 2002 – 2006
キーワード強磁性強誘電体 / YMnO_3 / 強誘電体ゲートトランジスタ / 誘電性-磁性交差相関現象 / 減分極電界 / 電界効果型スピン素子 / Si:Ce希薄磁性半導体 / スピントロニクス
研究概要

本研究では、マルチフェロイックFETの創成に向けた研究を遂行した。Si系磁性半導体と磁性強誘電体の新規な物性を明らかにするとともに、それらの接合によって生じる機能を利用した3種類の電界効果デバイスを提案することができた。最終デバイスの作製までは終了したものの研究期間内にデバイス動作を確認することはできなかった。しかしながら、それらの基礎物性は、5年間で41報の原著論文を発表し、学術的価値、関連分野への波及性に関して大きな成果が得られた。YMnO_3の磁気特性と強誘電特性との相関(マルチフェロイック物性)に関しては、ネール点近傍の温度において、YMnO_3の分極反転の抗電界および低電界側での誘電率に異常があることが見いだされた。反強磁性強誘電体であるYMnO_3はGinzburg-Landou方程式を元に導かれたドメイン安定性の議論から、強誘電性ドメイン壁は常に反強磁性ドメイン壁を伴うことが示唆されている。今回、実験的に反強磁性ドメインの形成によって強誘電性のドメイン反転が抑制されることを明らかにした。この結果はPhil.Mag.Lett.に招待論文として掲載された。誘電率がネール点で大きく減少する、強誘電性の抗電界がネール点以下で大きく増加する等が分かった。ラマン分光の結果から、フォノン-スピンカップリングが生じていることも明らかになっており、この二つの現象がリンクしていることが明らかになった。このネール点で抗電界が増加することを用いることによって、低電界で書込み、保持時は大きな抗電界を有するデバイスの設計が可能になったと考えられる。さらに、YMnO_3の反強磁性を利用した「エクスチェンジバイアス効果」も素子応用としては面白い効果である。また、AサイトをYbと置換することによって数少ない強磁性強誘電体を創出した。強磁性強誘電体を用いると「磁性強誘電体のスピンフィルタリング効果」を利用したデバイスの創成が可能になる。さらに、「磁性・強誘電性ドメイン相互作用」と「磁性極性半導体」との多重分極相互作用の3つの効果を用いた3種類のマルチフエロイックFETが構築できることが示唆され、設計指針が構築された。これらマルチフェロイック材料をゲートに、磁性半導体をチャネルに用いたこれら3つのデバイスは、世界初の提案である。しかしながら最も重要なことは、最初に記載した強誘電体をゲートに用いるとホール誘起の金属的磁性半導体をチャネルに用いることができることである。CMOSプロセスがイオン注入装置の停止で困難になったためにTFTの作製に計画を変更し、19年4月に完成した。デバイス動作は、ここ1-2年で確認されるものと期待される。この新規な電界効果デバイスをより効果的に動作させるために、極性半導体をチャネルとして用いることが有効であると言うことも提案した。

  • 研究成果

    (74件)

すべて 2007 2006 2005 2004 2003 2002

すべて 雑誌論文 (73件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Effect of Bi substitution on the magnetic and dielectric properties of epitaxially-grown BaFe_<0.3>Zr_<0.7>O_<3-8> thin films on SrTiO_3 substrates2007

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, S.Daido, N.Fujimura, T.Yoshimura, H.suda, K.Morii
    • 雑誌名

      Journal of Physics and Chemistry (in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic Frustration Behavior of Ferroelectric Ferromagnet YbMnO_3 Epitaxial Films2007

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, T.Takahashi, T.Yoshimura, A.Ashida
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 101(in press)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Multiferroic Behaviors of YMnO_3 and YbMnO_3 Epitaxial Films(INVITED PAPER)2007

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, N.Shigemitsu, T.Takahashi, A.Ashida, T.Yoshimura
    • 雑誌名

      Philosophical Magazine Letters 87

      ページ: 193-201

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic Properties of Low Temperature grown Si : Ce Thin Films on (001)Si substrate2007

    • 著者名/発表者名
      T.Terao, Y.Nishimura, D.Shindo, A.Ashida, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Journal of Magnetism and Magnetic Materials 310

      ページ: 726-728

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] The Comparison of the Growth Models of Silicon Nitride Ultra-Thin Films Fabricated Using Atmospheric Pressure Plasma and Radio Frequency Plasma2007

    • 著者名/発表者名
      M.Nakae, R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Uehara
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 101

      ページ: 023513

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Effect of Bi substitution on the magnetic and dielectric properties of epitaxially-grown BaFe_<0.3>Zr_<0.7>O_<3-δ> thin films on SrTiO_3 substrates2007

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, S.Daido, N.Fujimura, T.Yoshimura, H.Tsuda, K.Morii
    • 雑誌名

      Journal of Physics and Chemistry

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic Frustration Behavior of Ferroelectric Ferromagnet YbMnO_3 Epitaxial Films2007

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, T.Takahashi T.Yoshimura, A.Ashida
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 101

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Multiferroic Behaviors of YMnO_3 and YbMnO_3 Epitaxial Films (INVITED PAPER)2007

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, N.Shigemitsu, T.Takahashi, A.Ashida, T.Yoshimura
    • 雑誌名

      Philosophical Magazine Letters 87

      ページ: 193-201

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic Properties of Low Temperature grown Si:Ce Thin Films on (001) Si substrate2007

    • 著者名/発表者名
      T.Terao, Y.Nishimura, D.Shindo A.Ashida, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Journal of Magnetism and Magnetic Materials 310

      ページ: 726-728

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] The Comparison of the Growth Models of Silicon Nitride Ultra-Thin Films Fabricated Using Atmospheric Pressure Plasma and Radio Frequency Plasma2007

    • 著者名/発表者名
      M.Nakae, R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Uehara
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 101

      ページ: 023513

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Effect of Additional Oxygen for the Formation of Silicon Oxynitride Using Nitrogen Plasma Generated near Atmospheric Pressure2006

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, M.Nakae, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Uehara
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 9025-9028

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Detailed structural analysis and dielectric properties of silicon nitride film fabricated using pure nitrogen plasma generated near atmospheric pressure2006

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, M.Nakae, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Uehara, M.Tagawa, Y.Teraoka
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 100

      ページ: 073710

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Single-wall Carbon Nanotube Field Effect Transistors with Non-volatile Memory Operation2006

    • 著者名/発表者名
      T.Sakurai, T.Yoshimura, S.Akita, N.Fujimura, Y.Nakayama
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 4538

      ページ: L1036-L1038

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Growth and Ferromagnetic Properties of Ferroelectric YbMnO_3 Thin Films2006

    • 著者名/発表者名
      T.Takahashi, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 7329-7331

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Reaction of Si with excited nitrogen species in pure nitrogen plasma near atmospheric pressure2006

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, T.Uehara, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 506-507

      ページ: 423-426

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Effect of Additional Oxygen for the Formation of Silicon Oxynitride Using Nitrogen Plasma Generated near Atmospheric Pressure2006

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, M.Nakae, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Uehara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 45

      ページ: 9025-9028

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Detailed structural analysis and dielectric properties of silicon nitride film fabricated using pure nitrogen plasma generated near atmospheric pressure2006

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, M.Nakae, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Uehara, M.Tagawa, Y.Teraoka
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 100

      ページ: 073710

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Single-wall Carbon Nanotube Field Effect Transistors with Non-volatile Memory Operation2006

    • 著者名/発表者名
      T.Sakurai, T.Yoshimura, S.Akita, N.Fujimura, Y.Nakayama
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 4538

      ページ: L1036-L1038

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Growth and Ferromagnetic Properties of Ferroelectric YbMnO_3 Thin Films2006

    • 著者名/発表者名
      T.Takahashi, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 45

      ページ: 7329-7331

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Ferromagnetic and Dielectric Behavior of Mn-Doped BaCoO_32005

    • 著者名/発表者名
      T.Inoue, T.Matsui, N.Fujimura, H.Tsuda, K.Morii
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Magnetics 41

      ページ: 3496-3498

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Low-Temperature Growth and Characterization of Epitaxial YMnO_3/Y_2O_3/Si MFIS Capacitors with Thinner Insulator Layer2005

    • 著者名/発表者名
      K.Haratake, N.Shigemitsu, M.Nishijima, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J. Appl. Phys. 44

      ページ: 6977-6980

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Epitaxial growth of CuScO_2 thin films on sapphire a-plane substrates by pulsed laser deposition2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Kakehi, K.Satoh, T.Yotsuya, S.Nakao, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 97

      ページ: 083535

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Improvement of magnetization and leakage current properties of magnetoelectric BaFeO_3 thin films by Zr substitution2005

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, H.Tuda, N.Fujimura, K.Morii
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Letters 86

      ページ: 082902

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Enhancement of ferromagnetic ordering in dielectric BaFe_<1-X>ZrxO_3 (x=0.5-0.8) single crystalline films by pulsed laser-beam deposition2005

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, N.Fujimura, H.Tsuda, K.Morii
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 97

      ページ: 10M509

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Low-Temperature Growth and Characterization of Epitaxial YMnO_3/Y_2O_3/Si MFIS Capacitors with Thinner Insulator Laver2005

    • 著者名/発表者名
      K.Haratake, N.Shigemitsu, M.Nishijima, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 44

      ページ: 6977-6980

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Epitaxial growth of CuScO_2 thin films on sapphire a-plane substrates by pulsed laser deposition2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Kakehi, K.Satoh, T.Yotsuya, S.Nakao, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 97

      ページ: 083535

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Improvement of magnetization and leakage current properties of magnetoelectric BaFeO_3 thin films by Zr substitution2005

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, H.Tsuda, N.Fujimura, K.Morii
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Letters 86

      ページ: 082902

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Enhancement of ferromagnetic ordering in dielectric BaFe_<1-x>ZrxO_3(x=0.5-0.8) single crystalline films by pulsed laser-beam deposition2005

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, N.Fujimura, H.Tsuda, K.Morii
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 97

      ページ: 10M509

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Analysis of nitrogen plasma generated by a pulsed plasma system near atmospheric pressure2004

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, H.Kitahata, M.Yuasa, N.Fujimura
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 96

      ページ: 6094-6096

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Formation of Silicon Oxynitride Films with Low Leakage Current Using N_2/O_2 Plasma near Atomospheric Pressure2004

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, H.Kitahata, M.Yuasa, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 43

      ページ: 7853-7856

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Pulsed-Laser-Deposited YMnO_3 Epitaxial Films with Square Polarization-Electric Field Hysteresis Loop and Low-Temperature Growth2004

    • 著者名/発表者名
      N.Shigemitsu, H.Sakata, D.Ito, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 43

      ページ: 6613-6616

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Synthesis of Bi(Fe_xAl_<1-X>)O_3 Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Its Structural Characterization2004

    • 著者名/発表者名
      M.Okada, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 43

      ページ: 6609-6612

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Effect of oxygen deficiencies on magnetic properties of epitaxial grown BaFeO_3 thin films on (100)SrTiO_3 substrates2004

    • 著者名/発表者名
      E.Taketani, T.Matsui, N.Fujimura, K.Morii
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Magnetics 40

      ページ: 2736-2738

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] P-E measurements for ferroelectric gate capacitors2004

    • 著者名/発表者名
      T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Integrated Ferroelectrics 61

      ページ: 59-64

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Analysis of nitrogen plasma generated by a pulsed plasma system near atmospheric pressure2004

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshimura, A.Ashida, H.Kitahata, M.Yuasa, N.Fujimura
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 96

      ページ: 6094-6096

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Formation of Silicon Oxynitride Films with Low Leakage Current Using N_2/O_2 Plasma near Atomospheric Pressure2004

    • 著者名/発表者名
      R.Hayakawa, T.Yoshiraura, A.Ashida, H.Kitahata, M.Yuasa, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 43

      ページ: 7853-7856

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Pulsed-Laser-Deposited YMNO_3 Epitaxial Films with Square Polarization-Electric Field Hysteresis Loop and Low-Temperature Growth2004

    • 著者名/発表者名
      N.Shigemitsu, H.Sakata, D.Ito, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 43

      ページ: 6613-6616

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Synthesis of Bi(Fe_xAl<1-x>)O_3 Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Its Structural Characterization2004

    • 著者名/発表者名
      M.Okada, T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 43

      ページ: 6609-6612

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Polarization hysteresis loops of ferroelectric gate capacitors measured by Sawyer-tower circuit2003

    • 著者名/発表者名
      T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J. Appl. Phys. 42

      ページ: 6011-6014

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Improvement of Surface Morphology and the Dielectric Property of YMnO_3 Films2003

    • 著者名/発表者名
      H.Sakata, D.Ito, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J. Appl. Phys. 42

      ページ: 6003-6006

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Influence of Schottky and Poole-Frenkel emission on the retention property of YMnO_3 based Metal/Ferroelectric/Insulator/Semiconductor capacitors2003

    • 著者名/発表者名
      D.Ito, N.Fujimura, T.Yoshimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 94

      ページ: 4036-4041

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] The Effect of Carrier for Magnetic and Magneto-transport Properties of Si : Ce Films2003

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Wada, S.Hamasaki, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 93

      ページ: 7679-7681

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Formation of Two-Dimensional Electron Gas and the Magneto-Transport Behavior of ZnMnO/ZnO Heterostructure2003

    • 著者名/発表者名
      T.Edahiro, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 93

      ページ: 7673-7675

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic Properties of Highly Resistive BaFeO_3 Thin Films Epitaxially Grown on SrTiO_3 Single Crystal Substrates2003

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, N.Fujimura, T.Ito, K.Morii
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 93

      ページ: 6993-6995

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Ferromagnetic and Ferroelectric Behaviors of A Site Substituted YMnO_3 Based Epitaxial Thin Films2003

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, D.Ito, H.Sakata, T.Yoshimura, T.Yokota, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 93

      ページ: 6990-6992

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Ferroelectric properties of YMnO_3 epitaxial films for ferroelectric-gate field effect transistors2003

    • 著者名/発表者名
      D.Ito, N.Fujimura, T.Yoshimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 93

      ページ: 5563-5567

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic and Dielectric Properties of Epitaxially Grown BaFeO_3 Thin Films on SrTiO_3 Single Crystal Substrates2003

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, H.Tanaka, E.Taketani, N.Fujimura, T.Ito, K.Morii
    • 雑誌名

      J. Korean Phys. Soc. 42

      ページ: S1378-S1381

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic and Magneto-transport Properties of Solid Phase Epitaxially Grown Si : Ce Films2003

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 93

      ページ: 4045-4048

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Polarization hysteresis loops of ferroelectric gate capacitors measured by Sawyer-tower circuit2003

    • 著者名/発表者名
      T.Yoshimura, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 42

      ページ: 6011-6014

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Improvement of Surface Morphology and the Dielectric Property of YMnO_3 Films2003

    • 著者名/発表者名
      H.Sakata, D.Ito, T.Yoshimura, A.Ashida, N.Fujimura
    • 雑誌名

      Jpn J.Appl.Phys. 42

      ページ: 6003-6006

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Influence of Schottky and Poole-Frenkel emission on the retention property of YMnO_3 based Metal/Ferroelectric/Insulator/Semiconductor capacitors2003

    • 著者名/発表者名
      D.Ito, N.Fujimura, T.Yoshimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 94

      ページ: 4036-4041

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] The Effect of Carrier for Magnetic and Magneto-transport Properties of Si:Ce Films2003

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Wada, S.Hamasaki, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 93

      ページ: 7679-7681

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Formation of Two-Dimensional Electron Gas and the Magneto-Transport Behavior of ZnMnO/ZnO Heterostructure2003

    • 著者名/発表者名
      T.Edahiro, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 93

      ページ: 7673-7675

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic Properties of Highly Resistive BaFeO_3 Thin Films Epitaxially Grown on SrTi_O3 Single Crystal Substrates2003

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, E.Taketani, N.Fujimura, T.Ito, K.Mori
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 93

      ページ: 6993-6995

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Ferromagnetic and Ferroelectric Behaviors of A Site Substituted YMnO_3 Based Epitaxial Thin Films2003

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, D.Ito, H.Sakata, T.Yoshimura, T.Yokota, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 93

      ページ: 6990-6992

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Ferroelectric properties of YMnO_3 epitaxial films for ferroelectric-gate field effect transistor2003

    • 著者名/発表者名
      D.Ito, N.Fujimura, T.Yoshimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 93

      ページ: 5563-5567

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic and Dielectric Properties of Epitaxially Grown BaFeO_3 Thin Films on SrTiO_3 Single Crystal Substrates2003

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, H.Tanaka, E.Taketani, N.Fujimura, T.Ito, K.Morii
    • 雑誌名

      J.Korean Phys.Soc. 42

      ページ: S1378-S138

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Magnetic and Magneto-transport Properties of Solid Phase Epitaxially Grown Si:Ce Films2003

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 93

      ページ: 4045-4048

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] The effect of leakage current on the retention property of YMnO_3 based MFIS capacitor2002

    • 著者名/発表者名
      D.Ito, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      Integrated Ferroelectrics 49

      ページ: 41-49

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Effect of Substitutionally Dissolved Ce in Si on the Magnetic and Electric Properties of Magnetic Semiconductor : Si_<1-x>Ce_x Films2002

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Wada, S.Hamasaki, T.Ito
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. 81

      ページ: 4023-4025

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Crystal Growth and Interface Characterization of Dielectric BaZrO_3 Thin Films on Si Substrates2002

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, Y.Kitano, N.Fujimura, K.Morii, T.Ito
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 41

      ページ: 6639-6642

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Structural, Dielectric and Magnetic Properties of Epitaxially Grown BaFeO_3 Thin Films on(100) SrTiO_3 Single-crystal Substrates2002

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, H.Tanaka, N.Fujimura, T.Ito, H.Mabuchi, K.Morii
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. 81

      ページ: 2764-2766

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Ce Concentration Dependence on the Magnetic and Transport Properties of Ce Doped Si Epitaxial Films Prepared by Molecular Beam Epitaxy2002

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Wada, S.Hamasaki, T.Ito
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. 91

      ページ: 7905-7907

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Thin Film Crystal Growth of BaZrO_3 at Low Oxygen Partial Pressure2002

    • 著者名/発表者名
      Y.Kitano, T.Matsui, N.Fujimura, K.Morii, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 243

      ページ: 164-169

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Growth Process and Interfacial Structure of Epitaxial Y_2O_3/Si Thin Films Deposited by Pulsed Laser Deposition2002

    • 著者名/発表者名
      K.Kakuno, D.Ito, N.Fujimura, T.Matsui, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 237

      ページ: 487-491

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Retention Property Analysis of Epitaxially Grown YMnO_3/Y_2O_3/Si Capacitor2002

    • 著者名/発表者名
      D.Ito, N.Fujimura, K.Kakuno, T.Ito
    • 雑誌名

      Ferroelectrics 271

      ページ: 87-92

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Electro-Optic Property of ZnO : X (X = Li, Mg) Thin Films2002

    • 著者名/発表者名
      T.Nagata, T.Shimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 237

      ページ: 533-537

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] The Progress of the YMnO_3/Y_2O_3/Si System for a Ferroelectric Gate Field Effect Transistor2002

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, D.Ito, T.Ito
    • 雑誌名

      Ferroelectrics 271

      ページ: 229-234

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Effect of Substitutionally Dissolved Ce in Si on the Magnetic and Electric Properties of Magnetic Semiconductor : Si_<1-x>Ce_x Films2002

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Wada, S.Hamasaki, T.Ito
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett. 81

      ページ: 4023-4025

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Crystal Growth and Interface Characterization of Dielectric BaZrO_3 Thin Films on Si Substrates2002

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, Y.Kitano, N.Fujimura, K.Morii, T.Ito
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 41

      ページ: 6639-6642

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Structural, Dielectric and Magnetic Properties of Epitaxially Grown BaFeO_3 Thin Films on (100) SrTiO_3 Single-crystal Substrates2002

    • 著者名/発表者名
      T.Matsui, H.Tanaka, N.Fujimura, T.Ito, H.Mabuchi, K.Morii
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett. 81

      ページ: 2764-2766

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Ce Concentration Dependence on the Magnetic and Transport Properties of Ce Doped Si Epitaxial Films Prepared by Molecular Beam Epitaxy2002

    • 著者名/発表者名
      T.Yokota, N.Fujimura, T.Wada, S.Hamasaki, T.Ito
    • 雑誌名

      J.Appl.Phys. 91

      ページ: 7905-7907

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [雑誌論文] Electro-optic Property of ZnO:X(X=Li,Mg) Thin Films2002

    • 著者名/発表者名
      T.Nagata, T.Shimura, A.Ashida, N.Fujimura, T.Ito
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth 237

      ページ: 533-537

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
  • [図書] Ferroelectric Thin Films -Basic Properties and Device Physics for Memory Application-2005

    • 著者名/発表者名
      N.Fujimura, T.Yoshimura
    • 総ページ数
      199-218
    • 出版者
      Springer-Verlag GmbH
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より

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公開日: 2008-05-27  

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