| 研究概要 |
本研究では,今後の磁気ディスク装置の高密度化に必要となるコンタクト記録方式実現に最も大きな問題となる磁気ヘッドの摩耗を,磁気ディスク保護膜の改良により低減することを目的としている。昨年度はスパッタガス圧を高めてカーボン膜を軟質化することで,摺動子摩耗を低減できることを明らかにした。
本年度は,本研究の次の課題である「保護膜の形状の改良によるヘッド摩耗の低減」が可能かどうかを確認することを目標に研究を進めた。昨年度とは別の保護膜形成装置により各種条件での保護膜を当初計画通り小試験片で作成した。原子間力顕微鏡による形状観察では狙いに近い形状の膜形成の可能性も見られたが,これまでのところ再現性が低く摩耗試験にかけられる試料は得られていない。
この保護膜形成条件では表面形状の均一性が低下することがわかったので,本年度からディスク表面の平坦化によるヘッド摩耗低減の研究を開始した。具体的には,磁気ディスクカーボン膜表面を研磨テープで加工し,その後で潤滑剤を塗布した。表面加工の有無による摩耗の変化を昨年度同様にピン・オン・ディスク摩耗試験で測定した。その結果,研磨テープによるディスク表面加工により摺動子摩耗を低減できることを明らかにした。まだ加工条件を詳細に比較しておらず,さらに摩耗低減の可能性がある。
来年度は昨年度から開発中の保護膜材に,今年度開始した表面研磨による摩耗低減を加え,コンタクト記録用磁気ヘッドの摩耗をさらに低減するように進める。
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