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2004 年度 実績報告書

絶縁膜上シリコン光モジュレータの研究

研究課題

研究課題/領域番号 14350189
研究機関広島大学

研究代表者

角南 英夫  広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (10311804)

研究分担者 横山 新  広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (80144880)
キーワード光モジュレータ / SOI / 透明電極 / 自由電子 / 赤外吸収 / 光導波路 / 櫛形トランジスタ
研究概要

本研究の目標は、Si中自由電子による赤外光の吸収を利用する新しい光モジュレータの実現である。実現の要は、光と相互作用する自由電子の量をいかに確保するかというもので、このため櫛形MOSトランジスタを試作し、光吸収特性を評価した。
そのため、まず下記の基本構造を検討し、最適なデバイス構造パラメタを設定した。
(1)光導波路を90度屈曲した場合に、もっとも伝播損失の少ない構造を実験により選定した:具体的には三段階に屈曲した構造が最適であることを見出した。
(2)櫛形Siの間隙に埋め込む多結晶Siの最適不純物濃度を選定した:不純物濃度を10^<18>/cm^3程度含む多結晶Siが伝播損失の低減と、ゲート電極として動作をともに満たすことを実験によって確認した。
これらの実験結果を踏まえ、SOI(Silicon-On-Insulator)基板上に、高さ1μm、幅10-100μm、長さ1-3mmの櫛形SiビームのMOSトランジスタのモジュレータを試作した。このモジュレータの光吸収実験を評価中である。今までにわかったことは、
(1)mW級の入射光がほぼ1/1000のμW級となって出光することを確認した。
(2)まだ迷光が多く、明らかな光吸収特性は得られていない。
今後は、とくに迷光の遮断を行い、光吸収特性の評価を行う。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2004

すべて 雑誌論文 (4件)

  • [雑誌論文] A Three-Dimensional MOS Transistor Formation Technique with Crystallographic Orientation-Dependent TMAH Etchant2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami
    • 雑誌名

      SENSORS and ACTUATORS A : PHYSICAL A111

      ページ: 310-316

  • [雑誌論文] A High-Aspect Ratio Silicon Gate Formation Technique for Beam-Channel MOS Transistor with Impurity-Enhanced Oxidation2004

    • 著者名/発表者名
      A.Katakami
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 43-4B

      ページ: 2145-2150

  • [雑誌論文] An Experimental Analysis of 1.55-μm Infrared Light Propagation in Integrated SOI Structure2004

    • 著者名/発表者名
      M.Kawai
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of International Symp.on Solid State Devices and Materials No.P7-1

      ページ: 556-557

  • [雑誌論文] Integrated Power Transistor Application of Three-Dimensional Sidewall-Channel MOS Transistor (invited)2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami
    • 雑誌名

      Proc.the 7th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology A7.3

      ページ: 336-339

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公開日: 2006-07-12   更新日: 2016-04-21  

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