ナノギャップシステムを用いた強磁性単電子トランジスタの開発

2015 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 14J08599
• 研究機関: 東京農工大学
• 研究代表者: 須田 隆太郎 東京農工大学, 大学院工学府, 特別研究員(DC2)
• 研究期間 (年度): 2014-04-25 – 2016-03-31
• キーワード: 単電子トランジスタ / ナノギャップ / FMSET

研究実績の概要

前年度はNi系ナノギャップを利用し強磁性単電子トランジスタの室温動作を実証した。今年度は素子作製の高スループット化を視野に入れ、ナノシリコン弾道電子源を用いたプリンティング薄膜堆積法の提案と実験的･理論的検証を行った。極微量のCuCl2水溶液を塗布した基板を低気圧不活性ガス中で電子源と近接対向させ弾道電子を直接照射することにより、還元効果に基づくCu薄膜堆積現象を実証した。本手法はCuだけでなく強磁性金属にも適用できると考えられる。これらにより、常温･クリーン･低ダメージの新規固体薄膜堆積法としての有用性が明らかにされ、強磁性単電子デバイスの作製につながる微細プロセス技術を固めることができた。

現在までの達成度 (段落)

27年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

27年度が最終年度であるため、記入しない。

研究成果

• [雑誌論文] Reductive Deposition of Thin Cu Films Using Ballistic Hot Electrons as a Printing Beam (2016)
  • 著者名/発表者名: R. Suda, M. Yagi, A. kojima, N. Mori, J. Shirakashi, and N. Koshida
  • 雑誌名: J. Electrochem. Soc. 巻: 163 ページ: E162-E165
  • DOI: 10.1149/2.0921606jes
  • 査読あり
• [雑誌論文] Development of Ballistic Hot Electron Emitter and Its Applications to Parallel Processing: Active-Matrix Massive Direct-Write Lithography in Vacuum and Thin Film Deposition in Solutions (2015)
  • 著者名/発表者名: N. Koshida, A. Kojima, N. Ikegami, R. Suda, M. Yagi, J. Shirakashi, H. Miyaguchi, M. Muroyama, S. Yoshida, K. Totsu, and M. Esashi
  • 雑誌名: J. of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 巻: 14 ページ: 031215/1-7
  • DOI: 10.1117/1.JMM.14.3.031215
  • 査読あり
• [学会発表] 弾道電子の還元効果を利用したCu薄膜のプリンティング堆積 (2016)
  • 著者名/発表者名: 須田隆太郎, 八木麻実子, 小島明, 白樫淳一, 越田信義
  • 学会等名: 第63回応用物理学会春季学術講演
  • 発表場所: 東京都、目黒区、東京工業大学
  • 年月日: 2016-03-19 – 2016-03-22
• [学会発表] Thin Cu Film Deposition under Incidence of Ballistic Hot Electrons Emitted from Nanocrystalline Porous Silicon Diode (2016)
  • 著者名/発表者名: R. Suda, M. Yagi, A. Kojima, J. Shirakashi, and N. Koshida
  • 学会等名: Int. Conf. on Porous Semiconductors Science and Technology (PSST) 2016
  • 発表場所: La Pineda, Tarragona-Costa Dorada, Spain
  • 年月日: 2016-03-06 – 2016-03-11
  • 国際学会