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遷移金属錯体を用いた穏和な反応条件下における窒素分子の触媒的変換反応は古くから研究されているが，その成功例は数例に限られている。筆者の所属する研究室では，鉄錯体を用いて常温常圧の穏和な反応条件下において窒素分子をアンモニアの等価体であるシリルアミンへ触媒的に変換できることを報告している。また筆者は昨年度においてコバルト錯体を用いることによっても同様の反応条件下において窒素分子を触媒的にシリルアミンへ変換できることを見出した。同反応は窒素－ケイ素結合形成反応であるが，窒素－炭素結合形成反応へと展開することで窒素分子を直接的に含窒素有機化合物へ変換する手法の開発へつながると期待される。九州大学吉澤研究室と共同で行った反応機構研究により，これらの触媒反応系において系中でケイ素配位子を有する窒素錯体が生成し，反応中間体として働くことが示唆された。しかし，この推定反応中間体は非常に不安定であることも予想されており，反応中間体の単離には至っていない。この知見をもとにして筆者は三座型のケイ素配位子，特にリンーケイ素ーリン（PSiP）型配位子に注目し，同配位子を有する安定な鉄またはコバルト窒素錯体の合成を試みた。様々なPSiP型配位子および鉄錯体前駆体の組み合わせを検討した結果，PSiP型配位子を有する新規な鉄窒素錯体の合成に成功した。また，コバルト窒素錯体の合成も同様に検討し，PSiP型配位子を有する新規なハロゲン化コバルト錯体の合成にも成功した。
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