研究実績の概要 |
強誘電体メモリの低コスト化、高集積化、高性能化を実現するために、安価、耐熱性、耐酸化性、易加工性である非貴金属酸化物導電体Al:ZnO (AZO)およびSn:In2O3 (ITO)を従来の貴金属代替の電極材料に用いた。また、白金下部電極/強誘電体(Pb,La)(Zr,Ti)O3 (PLZT)間の中間層として、AZOおよびITOを用いた強誘電体キャパシタ (AZO/PLZT/AZO/Pt, ITO/PLZT/ITO/Pt)を作製した。 今年度は、中間層と上部電極にAZOおよびITOを用いた強誘電体キャパシタの電気特性を調査した。 AZO/PLZT/AZO/PtキャパシタのAZO中間層膜厚を0から120 nmに変化させた結果、分極-電圧 (P-V)ヒステリシスループの形状が劣化し、残留分極値 (2Pr)が大きく変化した。一方、ITO/PLZT/ITO/PtキャパシタのITO中間層膜厚を0から65 nmに変化させてもP-Vヒステリシスループの形状および2Prは変化しなかった。 作製した2種類の強誘電体キャパシタに対して、3%水素雰囲気下、200℃、1 Torrで45分間加熱させ、水素劣化耐性を評価した。中間層がない場合と比較して、AZOあるいはITO中間層を挿入した強誘電体キャパシタの方が45分後の2Prの保持率は高かった。しかし、AZOあるいはITO中間層を挿入しても、疲労特性は改善しなかった。 また、中間層なしの強誘電体キャパシタ (AZO/PLZT/Pt, ITO/PLZT/Pt)に対して水素劣化による膜中の水素分布を飛行時間型二次イオン質量分析法を用いて評価した。3%水素雰囲気下で45分間加熱後、ITO/PLZT/Ptキャパシタの方が、水素劣化後の強誘電体PLZT薄膜中の水素イオン強度増加量が大きく、AZO膜の方が水素に対する耐性が強いことが分かった。
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