| 研究概要 |
ピリミジルアルカノールおよびキノリルアルカノールを不斉自己触媒として用い,それぞれ対応するピリミジンカルバルデヒドおよびキノリンカルバルデヒドとジイソプロピル亜鉛との反応を行ったところ,鏡像体過剰率が向上する不斉自己増殖反応が進行することを明らかにし,不斉自己増殖反応の一般性を確立した。また,キラルなオレフィンの不斉認識が不斉自己増殖反応により可能であることを見出した。さらに,円偏光による不斉光平衡で生じる低鏡像体過剰率のキラルなオレフィンを不斉開始剤として用いる不斉自己増殖反応を行い,円偏光の向きに対応するピリミジルアルカノールを立体相関性良く高い鏡像体過剰率で得ることが出来た。これにより,物理的な円偏光起源により高い鏡像体過剰率のキラル化合物が生成するプロセスを明らかにした。また,ラセミ体の不斉自己触媒であるピリミジルアルカノールに円偏光を直接照射し,不斉光分解を行なった後,不斉自己触媒反応を行ったところ,円偏光の向きに対応した絶対配置を持つピリミジルアルカノールを高い鏡像体過剰塞率で得ることに成功した。本結果は,円偏光が直接の不斉起源となり不斉自己増殖反応と組み合わせることにより一方のエナンチオマーが生成するプロセスを初めて具現したものである。さらにヘリカルシリカ,キラルな無機有機複合材料を不斉開始剤とする不斉自己増殖反応を行った。さらに,不斉源を用いることなく,ピリミジンカルバルデヒドとジイソプロピル亜鉛との反応を行い,初期に生じるピリミジルアルカノール亜鉛アルコキシドのエナンチオマーのゆらぎを引き続く不斉自己触媒反応により増幅させ,検出限界以上の鏡像体過剰率を持つピリミジルアルカノールを得る自発的な絶対不斉合成を行った。
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