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2006 年度 実績報告書

三次元積層型プロセッサチップを用いた超高性能並列処理システム

研究課題

研究課題/領域番号 15106006
研究機関東北大学

研究代表者

小柳 光正  東北大学, 大学院工学研究科, 教授 (60205531)

研究分担者 羽根 一博  東北大学, 大学院工学研究科, 教授 (50164893)
寒川 誠二  東北大学, 流体科学研究所, 教授 (30323108)
田中 徹  東北大学, 大学院工学研究科, 助教授 (40417382)
福島 誉史  東北大学, 大学院工学研究科, 助手 (10374969)
キーワード三次元積層型プロセッサ / マルチポート共有メモリ / 三次元積層化技術 / ウェーハ貼り合わせ / 光インターコネクション / 光導波路 / 並列処理システム / 高速データ転送
研究概要

本研究の核となるのは、三次元積層構造をもつ共有メモリとそれを搭載した三次元積層型プロセッサおよびそれらを光インターコネクションで接続した共有メモリシステムである。三次元積層型共有メモリは各プロセッサのマルチポート入力メモリとしても働くのでノード共有メモリと見なすことができる。一方、複数の共有メモリユニットを光インターコネクションで接続した共有メモリシステムは、複数の共有メモリユニット間でデータを共有することから、ネットワーク共有メモリと見なすことができる。本研究では、このようなノード共有メモリとネットワーク共有メモリの基本動作を確認するために、テストチップおよびテストモジュールの試作を行なう。平成17年度までは、小規模の三次元積層型プロセッサ・テストチップを試作し基本動作の確認を行うとともに、光インターコネクションを有するマルチチップ・テストモジュールを試作してメモリチップ間の光によるデータ転送を確認した。平成18年度は、より大規模で高性能のプロセッサチップとメモリチップを積層するために、チップ-ウェーハ張り合わせ方式の三次元集積化技術(スーパーチップインテグレーション技術)の確立を行った。この技術を用いることにより、外部(半導体ファンドリー・メーカー)で試作したチップを多層に積層することができるようになるので、より大規模で高性能のチップを積層した三次元積層型プロセッサ・テストチップの作製が可能となる。平成17年度までの三次元積層型プロセッサ・テストチップの試作結果を基に、より大規模な三次元積層型プロセッサ・テストチップの設計を行った。また、FPGA(Field Programmable Array)に実装してシステムの動作が可能なことも実証した。光インターコネクション技術に関しては、データ転送のより高速化を目指して光導波路の低損失化(0.05db/cm以下)を実現した。

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2007 2006

すべて 雑誌論文 (11件)

  • [雑誌論文] High performance polynorbornene optical waveguide for Opto-electric interconnections2007

    • 著者名/発表者名
      M.Fujiwara
    • 雑誌名

      Polytronic 2007 6^<th> international IEEE conference on polymer and adhesives in microelectronics and Photonics

      ページ: 193-197

  • [雑誌論文] Sub-Atmospheric Chemical Vapor Deposition Process for Chip-to-Wafer 3-Dimensional Integration2006

    • 著者名/発表者名
      Hirokazu Kikuchi
    • 雑誌名

      The 2006 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 490-491

  • [雑誌論文] Novel Opto-Electro Printed Circuit Board with Polynorbornene Optical Waveguide2006

    • 著者名/発表者名
      M.Fujiwara
    • 雑誌名

      The 2006 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 840-841

  • [雑誌論文] Three-Dimensional Integration Technology Based on Wafer Bonding With Vertical Buried Interconnections2006

    • 著者名/発表者名
      Mitsumasa Koyanagi
    • 雑誌名

      IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES Vol. 53

      ページ: 2799-2808

  • [雑誌論文] ロボットビジョンシステムのための積層型並列リコンフィギャラブル画像処理プロセツサの設計2006

    • 著者名/発表者名
      杉村武昭
    • 雑誌名

      電子情報通信学会論文誌 Vol. J89-D

      ページ: 1141-1152

  • [雑誌論文] Effect of Ion Implantation Damage on Elevated Source/Drain Formation for Ultrathin Body Silicon on Insulator Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor2006

    • 著者名/発表者名
      Hycukjae OH
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45

      ページ: 2965-2969

  • [雑誌論文] Deep-Trench Etching for Chip-to-Chip Three-Dimensional Integration Technology2006

    • 著者名/発表者名
      Hirokazu KIKUCHI
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45

      ページ: 3024-3029

  • [雑誌論文] New Three-Dimensional Integration Technology Using Chip-to-Wafer Bonding to Achieve Ultimate Super-Chip Integration2006

    • 著者名/発表者名
      Takafumi FUKUSHIMA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45

      ページ: 3030-3035

  • [雑誌論文] Characteristics of Silicon-on-Lw K Insulator Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor with Metal Back Gate2006

    • 著者名/発表者名
      Yusnke YAMADA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45

      ページ: 3040-3044

  • [雑誌論文] Quantitative Derivation and Evaluation of Wire Length Distribution in Three-Dimensional Integrated Circuits Using Simulated Quenching2006

    • 著者名/発表者名
      Jun DEGUCHI
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45

      ページ: 3260-3265

  • [雑誌論文] Multichip Shared Memory Module with Optical Interconnection for Parallel-Processor System2006

    • 著者名/発表者名
      Hirofumi KURIBARA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol. 45

      ページ: 3504-3509

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公開日: 2008-05-08   更新日: 2016-04-21  

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