研究課題
触媒反応器としてのマイクロリアクター設計に当たっては、マイクロチャンネル内に精密な触媒反応場をいかに構築するかが大きな課題である。本研究では、シリコン基板上に作製したマイクロチャンネルの内部に直接触媒活性点を構築する手法を開発することを目的とした。触媒はフォトリソグラフィーの手法で作成したシリコンマイクロチャンネル内に前年度開発したミスト熱分解法で調製した。チャンネル深さを確保するため、表面酸化物層をマスクとし、アミンをもちいたエッチング法を採用した。陽極接合法でパイレックスガラス製の覆いを接合し、ガスの出入り口を作成してマイクロリアクターとした。シクロヘキサンの脱水素反応をモデルとしておこなった。シリコン基板を1000℃で空気中にて加熱し、表面にSiO薄膜を形成させてから、塩化白金酸水溶液を担持した。6時間処理が、最も高い活性を与えた。この結果は初年度のプロパン脱水素反応の結果と一致した。処理時間はSiO2層の厚みに影響を与えることから、活性の促進にはSiO2層の厚みに最適値があるものと推定された。XPSによる表面分析の結果、酸化物(SiO2)層が薄い場合、下地のシリコン基盤からの電子流入が酸化物層に影響を与えている可能性を見出した。マイクロリアクターの液相反応系への応用の一環として、ガイドライン付2相系マイクロリアクターを用いて、有機-水系二相層流の形成条件を検討した上で、塩化ベンゾイルの加水分解反応について、通常の回分反応器との比較を行った。
すべて 2005
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