研究課題
基盤研究(C)
1.前段AWGのクロストーク低減紫外レーザ照射用の金属マスク作製のため、インクジェットプリンタでマスクパターンを作製し、これをレジストシートに複写した後にドライエッチングする方法を考案した。本方法の特徴は、簡便(作製時間10分)かつ低コスト(従来の100分の1以下)で金属マスクを作製できることである。さらに、チャンネル間隔の広い前段用アレイ導波路型回折格子(AWG)の位相誤差を0.1radの精度で測定できる低コヒーレンス光干渉技術を確立した。本技術で得られた位相誤差データをもとに上記のインクジェットプリンタで位相誤差低減用金属マスクを作製し、本マスクを介してUVレーザ光をAWGに照射した。この結果、透過バンドの両端に存在したサイドローブを7dB低減することに成功した。2.後段AWGのクロストーク低減ファイバ型マッハ・ツェンダー干渉計と波長掃引レーザを用いて周波数領域におけるAWG位相誤差測定系を構築した。波長を高速掃引(50nm/s)して外乱によるファイバ干渉計への位相雑音混入を避け、レーザ光に内在する低周波帯での強度雑音をバランス検波回路で相殺した。この結果、当初計画していたモニタ干渉計を利用しなくてもAWGの位相誤差を0.05radの精度で測定できることが判明し、周波数領域における位相誤差測定技術を確立できた。3.タンデム構成超多チャネル光合分波器のクロストーク低減上記の金属マスク作製法において、エッチング条件を最適化することにより、微細なパターンをマスクに再現できるようになった。この技術を用いて後段用25GHz間隔200チャンネルAWGの金属マスクを作製し、UVレーザ光を照射したところ、中心チャンネルに対してクロストークを-39dBまで低減できた。位相調整を施したAWGで1,000チャンネル光合分波器を構築すると、累積クロストークを従来値に比べて5dB改善できることが分かった。
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