| 研究概要 |
近年、半導体プロセスにおけるリソグラフィのフィーチャーサイズが微細化するにつれて、リソグラフィーで形成された断面構造を光学的に非破壊・リアルタイムで評価しようとする要望が強くなってきた。一つには、分光エリプソメトリの威力が認識されてきたことにもよる。昨年夏にウィーンで開催された分光エリプソメトリに関する国際会議で米国ミシガン大学のF.L.Terry.Jr.が、そのような例を報告し注目された。
申請者らも以前からその重要性に着目し、周期的グレーティングの分光エリプソメトリ計測および解析法の研究をしてきた。今年度、科学研究費に採択されて初年度に達成したことは、これまでに構築してきた解析ソフトの正しさを、溶融石英基板に正確なリソグラフィによって作製した1次元周期的矩形溝の分光エリプソメトリ計測により確かめたことである。
リソグラフィで試料を作製するには、数100万円規模の研究費が必要で、交付された100万円程度の科学研究費でできることではなく、民間との共同研究との組み合わせで達成できた。一例を挙げると、最適合パラメータ値は、周期257.1nm、深さ396.6nm、溝幅105.7nmで、実測された分光エリプソメトリパラメータΨとΔのスペクトルがほぼ完全に再現された。一連の異なった構造の試料についても同様の結果が得られた。単一材料の1次元矩形溝構造については、フィットは申し分なく、この結果は申請者が所属する電子工学研究所主催の第12回固体薄膜・表面国際会議(2004.6.21-25)で発表する。アブストラクトに記載した表題と著者は次のようである。
Spcctroscopic cllipsomctry of lamcllar diffraction gratings on a thick transparcnt platc, R.Antos, I.Ohlidal, J.Mistrik, K.Murakami, T.Yamaguchi, J.istora*, M.Horie**
|
