研究課題
基盤研究(C)
本研究ではTetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane誘導体をホストとして用い、有効な殺菌剤の一つであるisothiazoline誘導体(殺菌剤>をゲストとして包接し、この結晶の殺菌剤徐放化特性に関して検討を行った。このホストとゲストは1:2の分子比率で分子錯体を形成するが、298Kにおける徐放過程では溶媒をゲストとする新たな組成と構造を持つ結晶が析出することが明らかになった。さらに、徐放化の速度ならびに到達殺菌剤濃度は攪拌速度の影響を受け、低速度の攪拌下では真の平衡濃度の到達せず、一種の準平衡状態が出現することを見出した。また、徐放過程では温度に大きく依存し、318Kでは、徐放メカニズムが298Kとは異なり、溶媒を包接した分子錯体結晶は析出しないことなどが分かった。このような溶出のプロセスは従来報告されていなかった現象であると考えられる。また、析出結晶の構造(多形)と操作条件との関係についてチアゾール誘導体(BPT)を用いた検討を行った。BPTについて水を貧溶媒とする貧溶媒晶析により結晶を析出させると溶媒和物を含む種々の結晶が析出する。このときの転移や析出に及ぼす操作条件について検討を行い、BPTの析出が温度、初期濃度、貧溶媒添加速度などの操作因子により大きく影響されることを明らかにした。また、転移速度が温度や溶媒組成などの晶析操作条件により変化することを示した。
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