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多くの植物種は、連続光下では生育が抑制され、葉が白化するなどの障害が現れる。一方、連続光下でも障害無く生育する種があるが、その耐性機構や遺伝様式は全く解明されていない。本研究では、ニホンカボチャの連続光耐性および感受性品種を用い、耐性機構および耐性形質の遺伝様式解明を試みた。
耐性品種と感受性品種のF_1雑種は、連続光下で障害が発生したが、その程度は感受性品種より軽く、葉のクロロフィル濃度は両親の中間に分布した。正逆交雑間では障害程度に違いはなく、連続光耐性形質の遺伝に細胞質は関与していないと考えられた。F_2集団では、感受性から耐性まで連続的に分布し、連続光耐性に複数の遺伝子が関与していると考えられた。さらに、F_2集団の感受性個体の自殖F_3集団で耐性個体が少数分離したことから、連続光耐性に劣性遺伝子が関与していると考えられた。
連続光障害は新展開葉で発現するが、既に展開した成熟葉に暗期を挿入すると新展開葉が連続光下におかれても障害発現しないこと、接ぎ木により新展開葉を感受性品種で成熟葉を耐性品種とすると障害が発現しなかった。このことから、連続光下におかれた成熟葉が新展開葉に障害を引き起こす作用を及ぼすことが示された。
連続光処理に伴い、耐性品種では感受性品種よりも、新展開葉における活性酸素消去系酵素の一種のスーパーオキシドディスムターゼとカタラーゼ活性が速く上昇したことから、活性酸素消去系酵素活性の早期の上昇が連続光障害回避機構の1つであると考えられた。
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