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2003 年度 実績報告書

近接場光によるナノ粒子配列技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 15656035
研究機関東京大学

研究代表者

土屋 健介  東京大学, 工学部附属総合試験所, 助手 (80345173)

研究分担者 中尾 政之  東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (90242007)
濱口 哲也  東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (90345083)
キーワード細密パターニング / ポテンシャルウェル / ナノ粒子 / テンプレート / 近接場光 / 電場勾配
研究概要

本研究の目的は、容易な製造方法で超細密パターニングを行なうために、型から漏れ出す近接場光などの電場勾配を用いてポテンシャルウェルのパターンを作成し、それをテンプレートにして金属・ガラス・プラスチックなどのナノ粒子を平面上に配列させる方法を開発することである。平成15年度の研究計画調書の研究計画方法に記した通り、申請者らは、波長441.6nmのコヒーレントなレーザ光源(金門電気IK4131I-G HeCd 150mWTEM00)と光学部品(オリンパスIX-71・PlanApo100・FLOVEL HCC600)で粒子配列実験装置を作成した。その実験装置を用いて、純水溶液中に分散する直径200nmのポリスチレン粒子(Polysciences, Inc.Fluoresbright17151)を蛍光観察しながら一つずつトラップすることに成功しており、光のポテンシャルウェルでナノ粒子が捕捉できることが確認できている。また、粒子配列方法として研究計画調書で提案した干渉縞法・感光材料法・凹凸法のための基礎実験を同実験装置で行い、干渉縞法・感光材料法のために必要な光によるナノオーダの縦縞パターンの作成に成功している。具体的には、フォトレジスト(東京応化TSMR-V90LB)と蛍光材料(Molecular Probes, Inc.FluoSpheres F-8800)でピッチ800nm以下の縦縞パターンをそれぞれ作成、確認できている。現在、作成したパターンにナノ粒子を並べるための条件出しの実験を進めている。

  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (1件)

  • [文献書誌] Tsuchiya, K., Ooi, T., Yamaji, A., Wakamatsu, K., Ishii, H., Hamaguchi, T., Nakao, M.: "Precise Gastight Sealing for Bio/chemical Microchip"Proceedings ASPE 2003 Annual Meeting. CD ROM. (2003)

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公開日: 2005-04-18   更新日: 2016-04-21  

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