| 研究概要 |
本研究では,ナノメートルオーダーの三次元(従来の二次元+深さ方向の制御)構造を安価に早く複製する技術を開発することを目的とする.この三次元ナノパターン転写技術にはナノインプリントリソグラフィ(Nano Imprint Lithography : NIL)技術を用いる.このプロセスは,ナノメートルオーダーのパターンが描かれているモールド(型)を樹脂に押し付けてレプリカを得るものである.従来までは,二次元的のモールドしか作製されていなかったが,本研究室において,三次元モールドの作製に成功した.本研究の目的として,さらに精度の高い三次元ナノモールドの作製を行い,そのモールドを用いたパターン転写特性を評価することを目的とする.三次元モールドを作製するために,レジストとしてSpin-On-Glass(SOG)を用い,電子ビームの加速電圧を変化させて電子ビーム直接描画により三次元露光を行っている.これによって精度の高い深さ方向の制御ができる。本年度の成果としては、ダイヤモンドと石英基板上に三次元のパターンを形成することができた。
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