|
アゾベンゼン部位を側鎖にもつ高分子材料は吸収のあるレーザー干渉光を照射することで、簡単に微細な表面レリーフ構造を得られることから、新しい記録材料として注目されている。本研究では、アゾベンゼン高分子薄膜を用いたホログラム窓の開発に向けて、アゾベンゼン高分子薄膜の記録特性評価、拡散体の試作、評価をおこなった。レーザー光源としてハイパワーでアゾベンゼンへの記録感度の良い波長のAr^+レーザー(488nmおよび514nm)を用いた。現在までに記録光の光強度及び偏光依存性の評価をおこない、薄膜上に回折格子を記録し最適な記録条件を求めた。また、実際にホログラム拡散体を記録し、透過率、拡散特性等を評価した。その結果、最適な膜厚、記録時間で記録することにより、透過率88%、非拡散光1%以下の良好な拡散体を作製することができた。さらに、回折格子と拡散体を組み合わせることで、拡散方向の制御ができる拡散体の試作をおこなった。回折効率はまだ低いが、1次回折光が拡散されるようすが確認された。今年度は、作製したホログラム拡散体の複製について重点的に検討をおこなった。複製材料として、可視域で透明性が高く、安定なシリコン樹脂や紫外線硬化樹脂の使用を検討し、最適な作製条件を求めた。さらに、実際に家のモデルを用いてホログラム窓の試作・評価を行った。研究成果の一部は北見で開催したIWMST2004において発表及びデモを実施した。今後は、ホログラム窓の実用化を最終目標に、大面積化、最適化を検討していく。
|
