| 研究課題/領域番号 |
15H03860
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子・繊維材料
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
中川 勝 東北大学, 多元物質科学研究所, 教授 (10293052)
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| 研究分担者 |
久保 祥一 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 機能性材料研究拠点, 主任研究員 (20514863)
廣芝 伸哉 早稲田大学, 理工学術院, 講師(任期付) (40635190)
中嶋 健 東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (90301770)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 光ラジカル重合 / 超薄膜 / ナノギャップ / ナノ加工 / ミクロゲル / 原子間力顕微鏡 / ドライエッチング / ナノインプリント技術 |
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| 研究成果の概要 |
本研究により、溶融シリカのナノすきまにおいて重合性モノマーの粘度が、バルク状態に比べて増加する現象を明らかにした。粘度増加が起こる超薄膜領域の厚さがモノマーや表面修飾分子の化学構造により変化することを明らかにした。界面科学におけるArrhenius-Andrade-Eyringの粘度式に代わる、新たな粘度式が不可欠である結論を導いた。重合性官能基消費率の高い硬化薄膜をレジスト材料に用いることで、硬化薄膜内のヤング率の斑を低減でき、酸素反応イオンエッチングにおけるレジスト形状の変化が小さいことが確認され、本研究で開発したレジスト材料が寸法精度の良いレジストマスクとして機能することを示した。
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| 自由記述の分野 |
高分子材料化学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究課題は、フラッシュメモリなどの半導体産業で日本企業が世界を先導しているナノインプリントリソグラフィに係わる研究内容である。次世代の線幅20nm以下での直接ナノ加工の信頼性を上げるために、光ラジカル重合で得られる紫外線硬化型分子液体の硬化薄膜の研究を行い、レジスト材料となる硬化薄膜に存在するナノメートルスケールでの力学的な不均一性の発生要因を学術的に解明した。本研究成果は、日本の産業力強化に資する高信頼性のナノ加工技術へとつながると考えている。
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