• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2017 年度 実績報告書

異種酸化物界面の分極を予測するマテリアル・インフォマティクスの開拓

研究課題

研究課題/領域番号 15H03979
研究機関早稲田大学

研究代表者

渡邉 孝信  早稲田大学, 理工学術院, 教授 (00367153)

研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2018-03-31
キーワード電子・電気材料 / 計算物理 / 表面・界面物性 / ナノ材料
研究実績の概要

階層型ニューラルネットワーク(NN)による多元酸化物同士の界面分極の学習と予測に取り組んだ。Al、Mg、Sr、Tiの4種類の金属元素を混合した様々な組成のhigh-k酸化物とSiO2界面のダイポールモーメントを分子動力学計算で求め、これを学習用もしくは検証用データとして用いた。単元系、二元系、三元系high-k酸化物の界面ダイポールのデータを学習したNNで、未学習の四元系酸化物の界面ダイポールを予測したところ、学習データに対する相関係数0.86に対し、未学習データに対しても0.72と高い相関係数が得られ、未学習のデータを外挿的に予測する能力を示唆する結果が得られた。組成比のみで良好な学習能力が示されたことから、多元high-k酸化物のダイポールモーメントも単純な法則で予測可能であると考えられる。調査の結果、多元high-k酸化物に含まれる金属カチオンの平均価数とダイポールモーメントとの間に強い相関が見いだされ、従来提案されている酸素原子密度差よりもさらに優れた記述子となることが判明した。
また、酸窒化物にも対象範囲を拡げて分子動力学シミュレーションを実施したところ、AlON/SiO2界面ではAlONのN濃度が増加するにつれて界面ダイポールの向きが逆転することが判明した。AlONのN濃度が少ない場合はアルミナ側のOイオンがSiO2側に移動することで界面ダイポールが形成されるが、N濃度が増えるにつれてAlイオンがSiO2側に優先的に移動するようになり、界面ダイポールの向きが逆転することが判明した。AlONのN濃度を増やすとAlSiON相のエネルギーが低下することも判明し、アルミナ相とシリカ相の混合促進が逆向きのダイポール形成につながっていることが判明した。酸窒化物においても、Oイオン同士の近接反発力と化合物生成エネルギーのバランスで分極の向きと大きさを説明できることが判明した。

現在までの達成度 (段落)

29年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

29年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2018 2017 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (9件) (うち国際学会 9件、 招待講演 2件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Molecular Dynamics of Dipole Layer Formation at High-k/SiO2Interface2017

    • 著者名/発表者名
      Watanabe Takanobu
    • 雑誌名

      ECS Transactions

      巻: 80 ページ: 313~325

    • DOI

      10.1149/08001.0313ecst

    • 査読あり
  • [学会発表] 分子動力学計算による異種酸化物界面のダイポール形成機構に関する考察2018

    • 著者名/発表者名
      金丸 翔太, 中川 宣拓, 高橋 憶人, 渡邉 孝信
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 国際学会
  • [学会発表] alency of cation rather than Oxygen Density may govern the Dipole Moment at high-k/SiO2 interfaces2018

    • 著者名/発表者名
      Marc Perea, Okuto Takahashi, Koki Nakane, Nobuhiro Nagasawa, Takanobu Watanabe
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 国際学会
  • [学会発表] Machine Learning of Interfacial Dipole Moments Between Multicomponent Oxide Films by Neural Network Model2017

    • 著者名/発表者名
      Koki Nakane, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe
    • 学会等名
      2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017)
    • 国際学会
  • [学会発表] Computational Experiment on Dipole Formation at High-k/SiO2 Interface Using Virtual Oxide Models2017

    • 著者名/発表者名
      Nobuhiro Nakagawa, Okuto Takahashi, Takanobu Watanabe
    • 学会等名
      2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017)
    • 国際学会
  • [学会発表] Investigation of Dipole Formation at AlOxNy/SiO2 interface by MD simulation2017

    • 著者名/発表者名
      Okuto Takahashi, Nobuhiro Nakagawa, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe
    • 学会等名
      2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017)
    • 国際学会
  • [学会発表] Molecular Dynamics of Dipole Layer Formation at High-k/SiO2 Interface2017

    • 著者名/発表者名
      Takanobu Watanabe
    • 学会等名
      232nd ECS MEETING
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Formation Mechanisms of Gate Oxide Films2017

    • 著者名/発表者名
      Takanobu Watanabe
    • 学会等名
      2017 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] ニューラルネットワークを用いた多元酸化物界面のダイポールモーメントの予測2017

    • 著者名/発表者名
      中根 滉稀, 富田基裕, 渡邉 孝信
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 国際学会
  • [学会発表] 分子動力学計算によるAlOxNy/SiO2界面におけるダイポール形成の駆動力の調査2017

    • 著者名/発表者名
      高橋 憶人, , 中川 宣託, 富田 基裕, 渡邉 孝信
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 国際学会
  • [備考] High-k絶縁膜シミュレーション

    • URL

      https://www.watanabe-lab.jp/dipole.html

URL: 

公開日: 2018-12-17  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi