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2017 年度 研究成果報告書

強磁性半導体を用いた半導体スピンデバイスの研究開発

研究課題

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研究課題/領域番号 15H03988
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関東京工業大学

研究代表者

PHAM NAM・HAI  東京工業大学, 工学院, 准教授 (50571717)

研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2018-03-31
キーワード強磁性半導体 / スピンダイオード / スピントランジスタ
研究成果の概要

本研究では、半導体スピンデバイスの作製に必要なp型強磁性半導体(Ga,Fe)Sbおよびn型強磁性半導体(In,Fe)Sbの開発に成功した。また、これらの強磁性半導体において、室温強磁性を実現した。次に、鉄系強磁性半導体からなるスピンダイオード構造やスピン電界効果トランジスタ構造を作製し、そのスピン依存伝導特性の評価を行った。n-(In,Fe)As/p-InAsの江崎ダイオード構造においては、トンネル分光法を使って(In,Fe)Asの自発バンドスピン分裂を観測した。また、(In,Fe)As量子井戸のチャンネルを有するスピン電界効果トランジスタ構造を作製し、波動関数制御による強磁性変調を行った。

自由記述の分野

スピントロニクス

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公開日: 2019-03-29  

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