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溶液プロセスによって酸化亜鉛薄膜を作製し、紫外線(UV)照射で透明導電膜とすることに成功した。
UV-Aと波長380 nmのUVを照射したところ照射時間わずか 1 時間で導電性が発現した。UVレーザを用いた回路描画では照射領域とそれ以外で3桁程度の抵抗率の違いがあることを確認した。pn接合ダイオードの形成ではp-Si基板上とp-GaN基板上でそれぞれ整流性が認められた。Mnイオンをドープしたところ最大磁化の1.68x10-2 e.m.u/gを得た。
本研究は、100℃以下の低環境負荷の溶液プロセスにより、透明性・導電性に加えて磁性を持つ薄膜を作製可能とした優れた成果といえる。
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