| 研究課題/領域番号 |
15H05406
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| 研究機関 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
佐藤 宗英 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, 主任研究員 (00509961)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 原子制御技術 / 前駆体合成 / キャストプロセス |
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| 研究実績の概要 |
実施計画に基づき、ドット前駆体の有機配位子を変更することでドット間隔を狭めるための前駆体群を合成した。同定はこれまで通り、MALDI-TOF質量分析、熱重量減少測定等を組み合わせて行った。デバイス作製に関しては、ドット形成の成否を決定付けるドット前駆体のキャストプロセスを長期的な視野から再検討した。具体的には、様々なドット前駆体を利用可能にするための溶媒系の検討、ALD成膜装置等の真空チャンバーにおけるドット堆積を可能にする成膜技術の開発が挙げられる。後者の成果に関しては、新たな製造装置の開発を可能にするため特許出願を行った。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
計画通り前駆体合成に成功し、特許出願にも繋がったため。
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| 今後の研究の推進方策 |
合成したドット前駆体から実際にドットを形成し、前駆体分子設計の有用性を検証する。デバイス作製プロセスの検討を引き続き行う。
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