| 研究課題/領域番号 |
15J02151
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| 研究機関 | 北海道大学 |
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研究代表者 |
北條 健太郎 北海道大学, 総合化学院, 特別研究員(DC1)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-24 – 2018-03-31
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| キーワード | 銅触媒 / アルキルボラン / アリル位アルキル化 / 不斉合成 / 分子内反応 / 第四級不斉炭素中心 / 鉄触媒 / クロスカップリング |
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| 研究実績の概要 |
第四級不斉炭素中心は生物活性化合物や医薬品中間体に多く見られる。その触媒的、エナンチオ選択的構築反応は、有用かつ魅力的手法である。しかし、高い触媒活性と厳密なエナンチオ選択性が要求されることから、有機合成化学における挑戦的課題として知られている。本研究は、末端アルケンを求核剤前駆体として用いた遷移金属触媒エナンチオ選択的クロスカップリング反応による第四級不斉炭素中心の構築反応の開発である。末端アルケンをヒドリド反応剤により還元、続く求電子剤との不斉カップリング反応が可能となるような遷移金属触媒系を設計する。本年度は、銅および鉄触媒系について検討し、以下に述べる成果が得られた。
同一分子内に末端アルケン部位を有する第一級塩化アリルを9-BBN-Hによりヒドロホウ素化した後、キラルCu(I)錯体触媒（10 mol %）とKOMe（1.1 eq）を、メシチレン／メチルtert-ブチルエーテル混合溶媒中で作用させると分子内アリル化反応が高エナンチオ選択的に進行した。本反応によりアルキル基とビニル基からなる第三級および第四級不斉炭素中心を有する様々なキラル環状化合物が得られた。生成物のビニル基は多様な官能基に変換できるため、キラル環状骨格を有する生物活性化合物合成への展開も期待できる。
鉄錯体触媒とヒドリド源であるヒドロシラン存在下、スチレンと第三級ハロゲン化アルキルの還元的カップリング反応が進行することを見出した。本反応によって四級炭素中心を有する化合物が得られた。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
本年度、銅触媒エナンチオ選択的分子内アリル化反応による第四級不斉炭素中心の構築法を見出した。また、鉄錯体触媒存在下、スチレンと第三級ハロゲン化アルキルの還元的カップリング反応による第四級炭素中心の構築に成功した。
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| 今後の研究の推進方策 |
銅触媒エナンチオ選択的分子内アリル化反応を用いた生物活性化合物合成を目指す。
鉄触媒系に関しては、本格的に配位子検討を開始する。ピンサー型配位子を設計合成しながら順次適用していき、反応に最適なものを見いだす。配位子に対して不斉環境を付与していくことでエナンチオ選択的反応を検討する。
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