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2017 年度 実績報告書

高次高調波軟X線源と高精度回転楕円ミラーの開発による軟X線顕微鏡システムの構築

研究課題

研究課題/領域番号 15J08622
研究機関東京大学

研究代表者

本山 央人  東京大学, 工学系研究科, 特別研究員(DC1)

研究期間 (年度) 2015-04-24 – 2018-03-31
キーワード軟X線自由電子レーザー / イオンビーム / スパッタ成膜
研究実績の概要

本研究も目的は,軟X線ナノ集光素子である回転楕円ミラーの実用化である.昨年度には高次高調波軟X線レーザーのナノ集光スポット形成に成功した.今年度は新たに軟X線自由電子レーザー(SX-FEL)光源への回転楕円ミラーのインストールと応用実験,ミラー形状を高精度化するための内面成膜プロセスの開発を実施した.
SX-FEL集光システムはSACLAの軟X線ビームライン(BL1)で実施した.光子エネルギー100eV付近の光をターゲットとした回転楕円ミラーを製作し,集光システムを構築した.波長100eVおよび120eVの光を使った集光実験の結果,いずれにおいても500nm前後のナノ領域に光を集光することに成功した.推定集光強度は10^16W/cm^2を超え,軟X線領域では極めて高い値を達成した.
次に,集光軟X線レーザーを固体サンプルに照射し,光の強度に応じて透過率が上昇する「可飽和吸収」の観測に取り組んだ.光子エネルギーを120eVに調整し,可飽和吸収体にはSiNメンブレンを選択した.低強度領域での透過率が~8%であったのに対して,高強度領域では透過率は~48%まで上昇した.透過率の明確な集光強度依存性を計測し,集光システムが軟X線非線形現象の研究に応用可能であることを示した.
並行して,回転体形状である回転楕円ミラーの内面の形状を修正するための新規プロセスを開発した.ミラーの内側に金属ターゲットを配置して外側から照射するイオンビームでスパッタすることで,ミラー内面にスパッタ粒子を成膜する.今年度は,ミラーの円周方向の形状修正実験に注力し,最初160 nm程度であった真円度を80 nmまで向上させることに成功した.
以上のように,2018年度はSACLAにおける集光システム開発と,ミラーの高精度化プロセス開発を実施した.

現在までの達成度 (段落)

29年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

29年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (8件)

すべて 2018 2017 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 4件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Differential deposition for producing microstructure2018

    • 著者名/発表者名
      Hiroto Motoyama, Mitsuru Nagayama, and Hidekazu Mimura
    • 雑誌名

      Precision Engineering

      巻: 印刷中 ページ: 印刷中

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Development of figure correction system for inner surface of ellipsoidal mirrors2018

    • 著者名/発表者名
      Shunya Yokomae, Hiroto Motoyama, and Hidekazu Mimura
    • 雑誌名

      Precision Engineering

      巻: 印刷中 ページ: 印刷中

    • 査読あり
  • [学会発表] 回転楕円ミラーを用いた軟X線自由電子レーザー集光システムの開発2018

    • 著者名/発表者名
      本山央人,大和田成起,久米健大,山口豪太,犬伏雄一,登野健介,小山貴久,江川悟,大橋治彦,矢橋牧名,三村秀和
    • 学会等名
      第31回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • [学会発表] Focusing EUV light with ellipsoidal mirror2017

    • 著者名/発表者名
      H. Motoyama, and H. Mimura
    • 学会等名
      International Conference on X-ray Optics, Detectors, Sources, and their Applications 2017 (XOPT2017)
    • 国際学会
  • [学会発表] Development of EUV focusing system based on ellipsoidal mirror2017

    • 著者名/発表者名
      H. Motoyama, and H. Mimura
    • 学会等名
      2017 SPIE Optics + Photonics
    • 国際学会
  • [学会発表] Focusing EUV high-order harmonics at the diffraction limit2017

    • 著者名/発表者名
      H. Motoyama, A. Iwasaki, T. Sato, H. Mimura, and K. Yamanouchi
    • 学会等名
      14th International conference on multiphoton processes
    • 国際学会
  • [学会発表] Development of differential deposition method for inner surfaces of ellipsoidal x-ray mirrors2017

    • 著者名/発表者名
      S. Yokomae, H. Motoyama, and H. Mimura
    • 学会等名
      The 7th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN 2017)
    • 国際学会
  • [備考] 国枝三村研究室_成果ページ

    • URL

      http://www.edm.t.u-tokyo.ac.jp/7MimuraGr/Seika.html

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公開日: 2018-12-17  

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