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研究代表者は、金ナノ粒子をガラス基板上またはポリマーフィルム上にブロック共重合体ポリマーをテンプレートとして固定化し、ナノ加工ターゲット基板を作製した。その基板に対して波長532 nmの可視光レーザーを大気中下で照射することにより、レーザーアブレーションを誘起させ、ポリマー膜およびガラス基板上に30nm以下のナノホールが2次元的に配列したナノポーラスフィルム創製に成功した。また、20nm厚程度からなるブロック共重合体ポリマーの超薄膜を作製し、溶媒アニーリング法によりナノポーラスフィルムが形成されることを見出した。
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