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サブ波長周期構造の形成において，ドライエッチングのプロセスが不可欠なため、高価な装置が必要であり、プロセスの簡易化や低コスト化が課題として残っていた。
本研究では，簡易なプロセスとして注目されているインプリント加工に注目し，ゾル-ゲル法とシリコーン樹脂をモールド材料としたインプリント法を併用することにより、赤外域で透過するジルコニアのサブ波長周期構造（格子周期400nm，格子高さ100nm）を形成することができた。この格子表面にAl格子を形成し、赤外用ワイヤグリッド偏光子の作製を行った。結果として，2.5～7.8μmの波長域で20dBを超える消光比が得られた。
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